リソグラフィー工程において、焼成温度が0.5°C変動するだけで、フォトレジストの特性にナノメートル単位の影響が生じます。そのわずかな変動が、最終的には歩留まりの低下につながります。熱管理が不可欠な工程において、私たちはツインチューブ式の赤外線ヒーターを開発しました。これにより、一般的な熱処理装置と、実際の工程で必要とされる高精度な加熱条件との間のギャップを埋め、ウェハーが必要とする場所に正確に熱を供給できます。
システムの仕組み このシステムは、速い応答性と安定した放射率を持つクォーツ製のケースを備えたツインショートウェーブ赤外線チューブを使用しています。応答速度は数十分の一秒程度であり、そのためソフトベイクやハードベイクの際にも温度の変化が滑らかに行われます。照明範囲内では、ウェハー全体の温度均一性が±0.1°C以内に保たれ、サイクルごとに温度の再現性も安定しています。ランプヘッドはクラス1～100のクリーンルーム向けに設計されており、粒子の発生を最小限に抑えるための素材や接合部が採用されています。出力も5,000時間以上にわたって安定しており、5％未満の減少しかありません。そのため、メンテナンスの間でも工程の精度が低下することはありません。
フォトレジスト処理における利点 フォトレジスト処理では、速く熱が届き、安定して保持され、何も残留しないような加熱が求められます。ツインチューブ式の設計により、エネルギーが集中され、迅速に温度が上昇します。その結果、フォトレジスト膜に負担をかけることなく、焼成工程を短縮できます。これにより、寸法制御がより厳密になり、再作業の必要が減ります。また、ウェハー全体にわたって予測可能な温度分布が得られます。さらに、ランプは必要に応じてのみ加熱され、迅速に冷却されるため、無駄なエネルギー消費もありません。
設置や運用時に注意すべき点 設置には、専用の遮蔽された電源供給が必要です。また、スポットの位置を正確に保つために、適切な取り付け間隔を確認する必要があります。このランプは、ほとんどの標準的なリソグラフィー装置やコーティング/焼成装置と連携して動作しますが、インターロック機能やセンサーの動作、安全性については、装置レベルで確認する必要があります。低湿度の環境で使用すると、長期的な安定性が向上します。湿気の多い環境では、クォーツ製のケースに結露が発生しないように、排気経路を確認する必要があります。