リソグラフィーの工程において、わずか0.2℃の温度変動でも、CD値が変わり、ウェーハの歩留まりが悪化してしまいます。コーター/デベロッパー装置では、ウェーハがソフトベイクやハードベイクの工程を経る間、迅速かつ正確に熱を供給し、その温度を安定させる必要があります。もしIRヒーターに問題があれば、スクラップや再加工、予期しない停止時間といった代償を払うことになります。
重要なポイント 私たちが開発したこのコーター/デベロッパー用IRヒーターは、近赤外線を利用しているため、エネルギーが直接フォトレジストに届きます。その結果、わずか数秒で温度が上昇し、ベイクエリア全体で±0.1℃の均一性が保たれます。また、温度の再現性も高く、どのロットでも同じ温度条件が得られます。 石英製の発熱体を使用しているため、粒子が発生せず、クラス1～100の清浄室でも問題なく使用できます。制御はクローズドループ方式で、校正済みのセンサーを使って、常に一定の温度を維持します。
なぜこのヒーターが適しているのか このヒーターは、コーター/デベロッパーの工程に最適化されており、目標温度に迅速に到達し、ベイクサイクル中もその温度を維持します。また、タイミングよく冷却されるため、処理速度が低下することはありません。ソフトベイクやハードベイクのプロファイルも一定であり、CD値の制御が容易になり、エッジビードの問題も減少します。 NIRエネルギーは必要な時にのみ供給されるため、無駄な熱が発生しません。実際の生産環境での信頼性も証明されており、5,000時間以上の稼働でも出力の低下がほとんどありません。これにより、スペア部品の必要性が減り、メンテナンスの回数も少なくなり、1枚あたりのコストも下がります。
注意すべき点 設置時には、正確な光学的位置合わせと、清潔で反射性の高いキャビティが必要です。これらが不十分だと、熱の偏りや不均一性が生じてしまいます。 このヒーターは標準的なコーター/デベロッパー装置と互換性がありますが、取り付け方法や口径、制御インターフェースなどは、使用する機械や工程に応じて確認する必要があります。量産を始める前に、サンプル運転を行い、設定値を確認し、均一性をチェックしておくことが重要です。