Het verminderen van koolstofuitstoot met precisie-IR-verwarming Wanneer je werkt in een半导体fabriek, is temperatuur geen simpel instellingsoptie – het...

Het behouden van de veiligheid bij het reinigen van wafers Wanneer je wafers verwarmt in een chemische reinigingslijn, werk je eigenlijk met vuur –...

Meer warmte op de siliciumwafels krijgen (zonder energieverlies) Wanneer je siliciumwafels verwarmt, moet je vooral proberen energieverlies te...

Het juiste gebruik van IR-reflectoren voor het drogen van chips Bij het drogen van chips is het belangrijk om een balans te vinden. Er moet voldoende...

Het vervangen van hete lucht door infraroodverwarming bij het drogen van MEMS-chips Lang was het gebruikelijke procedé om MEMS-sensorchips te drogen,...

Waarom de juiste IR-lamp je winst op de assemblageafdeling flink kan verhogen Wij maken lampen voor het drogen van wafers, en dat gebeurt uitsluitend...

Op de lithografielijn komt die 300 mm grote wafer net uit de DNS-reiniger. Hij wacht nu op het verhitten met fotoresist. De lijn kan geen afwijkingen...

Op het einde van het proces blijven watervlekken en het opnieuw neerslaan van deeltjes na de CMP-procedure het rendement beperken. Meestal is de...

Op de productielocatie staat de spoel- en droogapparaat precies tussen de reinigingsstap en de lithografiestap. Een temperatuurverschil van maar...