Op het einde van het proces blijven watervlekken en het opnieuw neerslaan van deeltjes na de CMP-procedure het rendement beperken. Meestal is de oorzaak een onstabiel thermisch profiel tijdens het drogen. We hebben onze droogapparaten na de CMP zo ontworpen dat deze variabiliteit worden weggenomen – in plaats van te worden verhoogd.
Wat technisch gezien belangrijk is
We gebruiken kortegolflange infraroodstralen die via een kwartsraam worden afgegeven. Hierdoor komt de energie rechtstreeks en snel op het wafer terecht – zonder dat deze energie het substraat bereikt. In de actieve zone houden we de uniformiteit van de temperatuur op het wafer op ±0,1°C. De herhaalbaarheid blijft hoog, omdat er een gekalibreerde closed-loop-regeling wordt gebruikt om de gewenste temperatuur in real time te controleren. Het apparaat past in schone ruimtes van klasse 1–100. De materialen en sluitingen zijn zodanig gekozen dat er geen deeltjes meer worden gegenereerd zodra het apparaat in een stabiele staat is.
Waarom dit werkt bij het drogen na de CMP
De taak is simpel: het reinigen van het wafer moet snel en nauwkeurig gebeuren, zonder restanten achter te laten. Een goede thermische controle zorgt ervoor dat de oppervlaktespanning steeds hetzelfde blijft – dit verminderd de kans op defecten. Deze stabiliteit heeft ook positieve effecten op de fotoresist. De parameters voor het drogen blijven constant, zodat er geen problemen zijn met de afmetingen of de gladheid van de randen. Het apparaat kan 24/7 draaien, zonder dat er onverwachte stilstand optreedt. Dit zorgt voor een constante productie en gemakkelijk onderhoud.
Dingen die je van tevoren moet weten
Voor de installatie moet de geometrie van de kamer goed worden bepaald, evenals de juiste positie van de koelmiddelen en uitlaatopeningen. We leveren de benodigde tekeningen, maar je moet zelf nog controleren of alles goed is geplaatst. Er moet eerst een korte opwarmperiode worden doorlopen voordat het apparaat klaar is voor gebruik. Dat is het offer dat je moet brengen voor de gewenste herhaalbaarheid. Una vez que todo está alineado, el aparato mantiene el equilibrio térmico bajo control y preserva la integridad del proceso.