کاهش انتشار کربن با استفاده از گرمایش دقیق با امواج مادون قرمز در کارخانه‌های تولید نیمه‌هادی، دما فقط یک پارامتر ساده نیست؛ بلکه همه چیز به آن بستگی...

حفظ امنیت هنگام تمیزکاری ویفرها وقتی که ویفرها را در خطوط تمیزکاری شیمیایی گرم می‌کنید، در واقع در حال بازی با آتش هستید؛ یا حداقل با بخاراتی که...

دریافت گرمای بیشتر بر روی ویفرها (بدون هدر رفتن انرژی) هنگام گرم کردن ویفرهای سیلیکونی، در واقع با مشکل هدر رفتن انرژی روبرو هستیم. مشکل اینجاست:...

استفاده صحیح از منعکس‌کننده‌های مادون قرمز برای خشک کردن ویفرها هنگام خشک کردن ویفرها، تعادل بسیار مهم است. شما به حرارت کافی نیاز دارید تا ویفرها از...

کنار گذاشتن استفاده از هوای داغ در خشک کردن ویفرهای MEMS برای مدت طولانی، روش مرسوم برای خشک کردن ویفرهای سنسورهای MEMS، استفاده از هوای داغ بود. این...

چرا لامپ‌های مادون قرمز مناسب، به طور مؤثری به افزایش سودآوری شما در خطوط تولید کمک می‌کنند؟ ما لامپ‌هایی برای خشک کردن ویفرها تولید می‌کنیم؛ این...

در فرآیند پخت، حتی تغییر نیم درجه‌ای در دما می‌تواند باعث تغییرات نانومتری در ابعاد محصول شود و در نتیجه، محصولات خوب به ضایعات تبدیل شوند. نمی‌توان...

در فرآیند لیتوگرافی، ویفرهای ۳۰۰ میلی‌متری بلافاصله پس از تمیز شدن با دستگاه DNS، در حالت انتظار برای عملیات پختن فوتورزیست قرار می‌گیرند. این خط...

در مرحله خشک کردن ویفرها پس از فرآیند CMP، وجود نشانه‌های آبی و تجمع ذرات همچنان باعث کاهش کیفیت محصول می‌شود. اغلب، عامل اصلی این مشکل، ناپایداری در...

در خط تولید، دستگاه شستشو و خشک‌کن درست بین مراحل تمیزکاری و لیتوگرافی قرار دارد. حتی اختلاف دمایی ۰.۵ درجه سانتی‌گراد نیز می‌تواند باعث ایجاد آثار...

در سالن تولید، یک نوسان دما در هنگام پروب‌زنی ویفر تنها زمان چرخه را افزایش نمی‌دهد. این موضوع منجر به دور ریختن تراشه‌ها، کاهش عملکرد و مختل شدن...