در فرآیند لیتوگرافی، ویفرهای ۳۰۰ میلیمتری بلافاصله پس از تمیز شدن با دستگاه DNS، در حالت انتظار برای عملیات پختن فوتورزیست قرار میگیرند. این خط تولید نمیتواند تغییرات دمایی در حد ±۰.۵ درجه سانتیگراد را تحمل کند؛ همچنین، اتاقهای تمیز نیز نمیتوانند ذرات اضافی را تحمل کنند. اگر دما حتی کمی تغییر کند، کنترل کیفیت محصول از بین خواهد رفت.
دقت گرمایش با استفاده از امواج مادون قرمز: یکپارچگی دمایی در مقیاس زیر میلیمتری و تکرارپذیری بالا
لامپهای مورد استفاده برای خشک کردن ویفرها، بر اساس امواج مادون قرمز کوتاه ساخته شدهاند؛ این امواج به گونهای تنظیم شدهاند که با نحوه جذب نور توسط فوتورزیست سازگار باشند. این امر منجر به یکپارچگی دمایی در سطح ویفر میشود؛ همچنین، این سیستم امکان کنترل دقیق دما را فراهم میکند. کنترل چرخهای، دما را در محدوده مشخصی نگه میدارد؛ بنابراین، هر بار که فرآیند تکرار میشود، دما یکسان باقی میماند.
چرا این روش در فرآیند خشک کردن و پختن فوتورزیست مؤثر است؟
لامپها مستقیماً در ماژولهای خشک کننده DNS قرار میگیرند و گرمای سریع و بدون تماس را ارائه میدهند. این لامپها در محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ کار میکنند؛ در این محیطها، هیچ ذرهای تولید نمیشود و میزان گازهای آزاد شده نیز کم است. این ویژگیها دقیقاً همان چیزی هستند که برای حفظ کیفیت محصول در فرآیندهای پیشرفته مورد نیاز است. یکپارچگی دمایی بالا، فرآیند را پایدار میکند؛ همچنین، پاسخ سریع لامپها به تغییرات دما، زمان فرآیند را کاهش داده و مصرف انرژی را نیز کم میکند. نتیجه این امر، عملکرد پایدار خط تولید، کاهش تعداد کارهای بازسازی، و امکان برنامهریزی دقیق برای تعمیرات است.
نکات مربوط به نصب و کارکرد:
از قبل، مسیرهای الکتریکی مورد نیاز برای اتاقهای تمیز را برنامهریزی کنید؛ همچنین، موقعیت لامپها نسبت به پنجرههای مربوط به محفظه DNS را به درستی بررسی کنید؛ تنظیم نادرست موقعیت لامپها، باعث اختلال در یکپارچگی دمایی میشود. لامپها میتوانند با توان کامل کار کنند، اما عمر آنها محدود است؛ بنابراین، باید زمان تعویض لامپها را از قبل برنامهریزی کنید تا از توقف ناخواسته فرآیند تولید جلوگیری شود. قبل از شروع فرآیند، نسخه لامپها را بررسی کنید تا از سازگاری آنها با فرآیند مطمئن شوید؛ همچنین، محدوده دمایی مورد نیاز برای فرآیند را نیز بررسی کنید.