在光刻工艺中，如果烘烤温度有0.5℃的波动，那么光阻层的厚度就会发生纳米级的变化——而这种微小的变化会导致产品合格率下降。因此，我们设计了双管式红外加热灯，用于那些对温度控制要求极高的工序。这种加热灯能够填补传统加热设备与工艺所需精确温度控制之间的差距，确保晶圆各处的温度都得到精确控制。
系统的工作原理 该系统采用两根石英封装的短波红外管，这样的设计能够实现快速响应且辐射效率稳定。其响应时间可控制在秒级以内，因此无论是在软烘还是硬烘过程中，温度曲线都能保持稳定。在照明区域内，晶圆表面的温度均匀性可维持在±0.1℃以内，而且每次循环后的温度重复性也相当高。该灯头专为1级到100级的洁净室设计，其材料和连接方式能够将颗粒产生的可能性降到最低。该灯的功率在5,000小时以上仍能保持稳定，功率下降幅度不到5%，从而避免在维护间隔期间出现温度波动。
为何适合用于光阻处理 在光阻处理过程中，需要的是能够快速传递热量、保持温度稳定的加热方式，同时不能留下任何杂质。双管设计可以集中能量，从而实现快速升温，进而缩短烘烤时间，同时不会对光阻层造成损害。这样就能更好地控制产品的关键尺寸，减少返工次数，同时让整个晶圆上的温度分布更加均匀。此外，由于该灯是按需加热并且能快速冷却，因此还可以节省能源，避免不必要的能量损失。
安装与使用时的注意事项 安装时需要为该灯提供专门且屏蔽良好的电源供应，同时还要确保安装位置正确，以保持所需的温度分布。该灯可以与其他标准的光刻及涂层/烘烤设备配合使用，但还需要确认其与其他设备的接口是否合适，以及传感器的布局是否合理，以确保安全。在低湿度环境中使用该灯 dapat提高其长期稳定性；而在潮湿环境中，则需要确保排气系统良好，以避免石英外壳上出现冷凝水。