Giảm lượng khí thải carbon nhờ việc sử dụng công nghệ sưởi ấm bằng tia hồng ngoại chính xác Khi làm việc trong các nhà máy sản xuất chip bán dẫn,...

Bảo vệ các linh kiện khi vệ sinh wafer Khi bạn đun nóng các wafer trong quy trình vệ sinh bằng hóa chất, thực chất bạn đang “chơi với lửa” – hoặc ít...

Làm thế nào để tăng cường lượng nhiệt được truyền vào các wafer mà không lãng phí năng lượng? Khi làm nóng các wafer silic, bạn đang phải đối mặt với...

Làm thế nào để sử dụng các bộ phản xạ hồng ngoại một cách hiệu quả trong quá trình xử lý wafer Khi xử lý wafer, điều quan trọng nhất chính là sự cân...

Thay thế phương pháp sử dụng không khí nóng bằng phương pháp sử dụng ánh sáng hồng ngoại trong quá trình sấy các tấm wafer MEMS Trong thời gian dài,...

Tại sao bóng đèn hồng ngoại chất lượng cao lại giúp tăng hiệu quả kinh doanh trong quy trình lắp ráp? Chúng tôi chế tạo các bóng đèn dùng để sấy khô...

Trong quy trình sản xuất, ngay cả sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5 độ C cũng có thể khiến kích thước của các chi tiết sản phẩm thay đổi vài nanomet,...

Trên khu vực xử lý bằng phương pháp in khắc, tấm wafer có kích thước 300 mm vừa được lấy ra khỏi máy làm sạch DNS, và giờ đây nó đang chờ được xử lý...

Trong quá trình sấy sau CMP, các vết nước và các hạt bụi vẫn còn tồn tại trên bề mặt wafer, điều này làm giảm chất lượng sản phẩm. Nguyên nhân thường...

Trong khu vực làm sạch và sấy khô wafer, thiết bị sấy khô được đặt ngay giữa hai giai đoạn này. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ dù chỉ 0,5°C thôi...

Trên sàn sản xuất, một lần lệch nhiệt độ trong quá trình dò thử wafer không chỉ làm mất thời gian chu trình. Nó phá hủy die, ảnh hưởng nghiêm trọng...