Op de lithografielijn biedt de verwerking van EUV-resist geen ruimte voor thermische afwijkingen. Is de temperatuur tijdens het bakken een graad te hoog? Dan ontstaan er afwijkingen op het waferoppervlak. Hierdoor neemt de opbrengst geleidelijk af – op een manier die zich elke shift herhaalt. De verwarmingselementen onder de resist moeten een constante temperatuur leveren, ongeacht of het om verschillende shifts of ladingen gaat. Ze mogen geen deeltjes vrijmaken en mogen ook geen stilstand veroorzaken.
Wat belangrijk is achter de schermen
We bouwen de verwarmingselementen voor EUV-resist op basis van gecontroleerde infraroodbronnen – zowel korte- als middelgolflengten. Hierbij worden kwartsramen en halogeencomponenten gebruikt die een stabiele spectroscopische uitgangsenergie leveren. Het resultaat is een temperatuurregulatie van ±0,1°C over het hele oppervlak van de resist. De bakprofielen zijn bovendien consistent. Het apparaat is geschikt voor gebruik in een schone omgeving van klasse 1–100. De materialen en afwerkingen zijn zo gekozen dat er geen deeltjes worden geproduceerd tijdens het gebruik. De uitgangsenergie past bij de standaardwaarden voor stroom en spanning. De aansluitingen passen op de bestaande apparaten, zodat er geen herconfiguratie nodig is wanneer het apparaat wordt vervangen.
Waarom dit werkt voor EUV-resist
EUV-resistlagen zijn dun en er is weinig ruimte voor thermische afwijkingen. Precisie is belangrijker dan grote vermogens. We houden de temperatuur op het niveau dat volgens de specificaties vereist is, en niet op het niveau dat door thermische afwijkingen wordt bepaald. Hierdoor wordt de controle over de belangrijkste dimensies verbeterd, zijn er minder defecten en is de opbrengst consistent. Ook is het belangrijk dat de verwarmingselementen 24/7 werken, zonder onverwachte stilstanden. Er zijn geen hotspots, geen interlocks en geen onverwachte onderhoudswerkzaamheden die het proces kunnen verstoren.
Wat je moet plannen
De installatie is eenvoudig op standaardapparaten, maar de verwarmingselementen moeten passen bij de geometrie van de kamer en de IR-route. Er zal eerst een korte testperiode nodig zijn om de bakprofielen vast te stellen en de uniformiteit te controleren. De levensduur is lang – meestal meer dan 5.000 uur – maar preventieve kalibratie is nog steeds nodig om een temperatuurregulatie van ±0,1°C te behouden. Plan deze kalibraties in je schema in; dit zorgt voor stabiele EUV-exposures, shift na shift.