Bij het verhitten van fotoresist is temperatuur geen aanbeveling – het is een essentieel onderdeel van het proces. Een verschil van 0,5°C tijdens het zacht verhitten van de fotoresist is al voldoende om de kritieke dimensies met enkele nanometers te veranderen. In een fabriek met hoge productiesnelheden blijft dit verschil niet theoretisch; het resulteert in afvalproducten.
We hebben een verwarmingsapparaat ontworpen voor de karakterisering van halfgeleiderapparaten, zodat het thermische gedrag voorspelbaar blijft, zelfs in situaties waarin het proces zeer nauwkeurig moet worden uitgevoerd.
Wat belangrijk is We gebruiken kortegolflange infrarode stralers die snel en rechtstreeks op het substraat werken. Hierdoor wordt de thermische vertraging tijdens de verhittingsstappen verminderd. Over het hele oppervlak van de wafer blijft de temperatuur binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid tussen verschillende producties ligt binnen ±0,05°C. De controle vindt plaats in een gesloten circuit, waarbij de sensoren zijn gekalibreerd op de thermische massa van het substraat en de andere onderdelen.
Het systeem is ontworpen voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1–100: de hete zone produceert geen deeltjes, en de materialen zijn zo gekozen dat er minder gasontlading optreedt. De stabiele prestaties van het systeem blijven behouden gedurende meer dan 5.000 uur, met een intensiteitsverschil van minder dan 5%.
Waarom het geschikt is voor de fabriek Deze verwarmingsapparaten helpen bij het overwinnen van thermische problemen tijdens het verwerken van fotoresist – bij het zacht en hard verhitten en bij het drogen van de fotoresist. Hierdoor blijft de temperatuur uniform over het hele oppervlak van de wafer, waardoor er minder herwerk nodig is en de thermische profielen consistenter zijn. De snelle temperatuurregeling zorgt ervoor dat de verhittingstijden korter zijn, zonder dat dit negatieve gevolgen heeft voor de kwaliteit. De energieverbruik neemt af, omdat de energie alleen wordt gebruikt waar het nodig is, en niet om de omgeving op te warmen. Het systeem is ontworpen voor 24/7 gebruik, met serviceintervallen die overeenkomen met de geplande onderhoudswerkzaamheden.
Wat u van tevoren moet weten Kortegolflange infrarode stralers zijn gevoelig voor de optische omstandigheden. Reflectie en absorptie hangen af van de kleur van het substraat, de lagen op de achterkant van de wafer en de geometrie van de apparatuur. Daarom voeren we een kort testproces uit met uw eigen materialen en procedures.
De integratie van het systeem is eenvoudig, maar het thermische coupleerproces moet wel goed worden meegenomen bij de installatie. De richtinging van de stralers, de plaatsing van de sensoren en de kalibratie van de emissiviteit bepalen de prestaties van het systeem. Plan voor één testrun; daarna kan het proces op basis van herhaalbaarheid worden uitgevoerd.