Dalam proses litografi menggunakan teknologi EUV, penggunaan bahan resisten yang sesuai sangat penting. Sebarang perubahan suhu yang tidak dijangka boleh menyebabkan masalah. Jika suhu semasa proses pembakaran terlalu tinggi atau terlalu rendah, ia akan menjejaskan kualiti wafer. Ini akan menyebabkan penurunan kadar pengeluaran, secara perlahan-lahan dan berulang-ulang setiap kali proses pembakaran dilakukan. Komponen pemanas yang digunakan perlu dapat memastikan suhu yang konsisten, tanpa menghasilkan zarah-zarah tertentu atau menyebabkan gangguan dalam proses pembakaran.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina pemanas untuk bahan resisten EUV menggunakan sumber inframerah yang terkawal – gelombang pendek dan gelombang sederhana – bersama-sama dengan bahan kuarza dan unsur halogen yang dipilih untuk memberikan output spektrum yang stabil. Hasilnya ialah suhu yang seragam pada permukaan wafer, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C. Profil suhu semasa proses pembakaran juga harus konsisten. Peralatan ini sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang digunakan untuk memastikan tiada zarah yang dihasilkan semasa operasi. Keluaran tenaga yang dihasilkan juga selaras dengan standard yang ditetapkan, dan soket penyambungnya sesuai dengan sistem pembakaran yang ada, sehingga tidak perlu melakukan penggantian komponen secara manual.
Mengapa cara ini berkesan untuk bahan resisten EUV
Lapisan bahan resisten EUV sangat nipis, jadi kawalan suhu yang tepat sangat penting. Kita perlu memastikan suhu berada pada tahap yang ditetapkan oleh spesifikasi proses, bukan pada tahap yang ditentukan oleh faktor-faktor luaran. Dengan cara ini, kita dapat mengawal dimensi-kritikal wafer dengan lebih baik, mengurangkan kecacatan pada permukaan wafer, dan memastikan kualiti hasil pengeluaran yang stabil. Selain itu, pemanas tersebut boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, tanpa adanya titik panas atau masalah lain yang boleh mengganggu proses pembakaran.
Apa yang perlu dirancang
Pemasangan pemanas ini adalah mudah pada sistem pembakaran biasa, tetapi pemanas tersebut perlu disesuaikan dengan geometri ruang pembakaran dan laluan sinar inframerah. Proses pensampelan awal diperlukan untuk memastikan profil suhu yang betul dan keseragaman suhu pada permukaan wafer. Jangka hayat pemanas ini sangat panjang – lebih dari 5,000 jam – tetapi penyesuaian berkala masih diperlukan untuk memastikan suhu tetap stabil pada lingkungan ±0.1°C. Pastikan proses penyesuaian ini dilakukan secara teratur, agar hasil pengeluaran tetap stabil dari masa ke masa.