Di peringkat pengeringan selepas proses CMP, kesan air dan pemendapan zarah-zarah masih boleh mengurangkan kualiti wafer yang dihasilkan. Biasanya, punca masalahnya adalah disebabkan oleh profil suhu yang tidak stabil semasa proses pengeringan. Kami telah mencipta sistem pemanas khusus untuk wafer selepas proses CMP, agar variasi suhu dapat dikurangkan, bukannya ditambahkan.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek di belakang tingkap kuarsa, supaya tenaga dapat sampai ke wafer secara langsung dan cepat—tanpa melebihi suhu substrat. Di kawasan aktif tersebut, kita dapat mengekalkan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C. Repeatabiliti juga terjamin kerana sistem kawalan berlaku secara masa nyata. Unit ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan dan komponen yang digunakan dipilih agar jumlah zarah yang dihasilkan sama dengan sifar setelah proses pengeringan selesai.
Mengapa ia berfungsi dengan baik semasa pengeringan selepas CMP
Tugasnya sangat mudah: buang lapisan cecair yang melekat pada permukaan wafer dengan cepat dan tanpa meninggalkan sisa. Kawalan suhu yang tepat memastikan tegangan permukaan tetap stabil, dan ini seterusnya mengurangkan kecacatan pada wafer. Stabiliti ini juga membantu menjaga kualiti bahan fotoresist. Proses pembakaran dilakukan secara konsisten, jadi tidak akan berlaku perubahan pada dimensi atau ketidakrataan garis-garis pada permukaan wafer. Pemanas ini juga boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, sehingga meningkatkan kelajuan pengeluaran dan memudahkan penyelenggaraan.
Hal-hal yang perlu diketahui terlebih dahulu
Pemasangan unit ini memerlukan penyesuaian geometri bilik bersih serta penentuan posisi saluran penyejuk dan pengeluaran udara dengan betul. Kami menyediakan gambaran teknikal untuk proses pemasangan, tetapi anda masih perlu memeriksa sendiri kesesuaiannya di lapangan. Anda perlu meluangkan sedikit masa untuk memastikan suhu mencapai keadaan seimbang sebelum memulakan proses pengeringan. Itulah kompromi yang perlu dibuat demi mendapatkan hasil yang konsisten. Setelah semuanya diselaraskan, unit ini akan mengekalkan suhu dalam batas yang ditetapkan, sehingga proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar.