精密なIR加熱による二酸化炭素削減 半導体工場で作業を行う際、温度というのは単なる設定値ではありません。それはすべてを左右する要素です。わずかな誤差があっても、そのロット全体が使い物にならなくなってしまいます。 私たちは、短波長のIR加熱が最適な方法だと気づきました。なぜでしょうか？それは、ウェー...

ウェーハを清潔にする際に、安全性を保つためにはどうすればよいのでしょうか？ 化学的な洗浄処理を行う際、ウェーハを加熱するということは、まるで火を扱っているようなものです。少なくとも、爆発しやすい蒸気を扱っているのと同じです。通常の赤外線ランプでは、このような過酷な環境に耐えられません。そうなると大...

ウェーハにより多くの熱を与える方法（電力の無駄遣いを避けて） シリコンウェーハを加熱する際、実質的にはエネルギーの損失と戦っていることになります。 問題は、一般的な石英ランプが360度全方位に熱を放出する点です。適切な反射器がない場合、消費されたエネルギーの半分が装置の筐体内で失われてしまいます。...

ウェーハの硬化処理において、適切な赤外線反射器を選ぶことが重要です。ウェーハを硬化させる際には、化学的に安定した状態を保つための十分な熱が必要です。しかし、熱が過剰になると、基板が変形してしまいます。まさに細心の注意が必要な作業です。 これをうまく行うために、私たちは赤外線ランプと特殊な反射器を組...

MEMSウェーハの乾燥において、熱風の代わりに赤外線を利用する 長い間、MEMSセンサー用ウェーハを乾燥させるための一般的な方法は、その表面に熱風を当てることでした。これは古くから使われてきた方法です。つまり、対流によって熱が表面に伝わり、そうすることで水分が蒸発するのを待つというわけです。 しか...

なぜ適切なIRランプが、組立ラインで生産性を静かに向上させるのか 私たちがウェーハ乾燥用ランプを製造するのは、大量生産やテストが行われる場所だけです。それがすべてです。 つまり、コストを増やすことなく、より多くの製品を生産できるようにするのです。 「ファウンドリグレード」という言葉を使うとき、私た...

製造現場では、焼成温度が半度だけ変動しても、回路の寸法にナノメートル単位の影響が生じ、良品が不良品に変わってしまうことがあります。歩留まりを管理するには、単なる希望に頼るのではなく、プロセス自体が要求する以上に厳格に温度制御を行う必要があります。私たちは、そのような状況に対応するために、特別な温度...

リソグラフィー工程では、その300mmウェーハはDNSクリーナーから取り出された後、フォトレジストの硬化処理を待っている状態になります。この工程では、±0.5℃の温度変動も許されず、またクリーンルーム内には余分な粒子も存在してはなりません。もし温度がわずかにでも変動すれば、CD精度が失われ、結果と...

CMP処理後には、ウォーターマークや粒子の再付着が依然として歩留まりを低下させる要因となっています。多くの場合、その原因は乾燥時の不安定な温度プロファイルにあります。私たちは、このような不確実性を排除するために、CMP処理後のウェハ乾燥用ヒーターを開発しました。つまり、不確実性を増大させるのではな...

製造ライン上では、リンス・ドライヤーはクリーニング工程とリソグラフィ工程のちょうど中間に位置しています。たとえ0.5℃程度の温度変動でも、ウェーハに水跡が残ったり、最悪の場合、ハードベイク後にフォトレジストが流れ出してしまったりする可能性があります。私たちは、このリンス・ドライヤー用に特別に設計さ...