در فرآیند لیتوگرافی، استفاده از رزیستهای EUV نیازمند دقت بالا در کنترل دماست؛ هرگونه تغییر دما میتواند باعث کاهش کیفیت محصول شود. قطعات گرمایشی موجود در زیر رزیست باید دمای یکنواختی را در سراسر سطح ویفر فراهم کنند، بدون اینکه ذراتی تولید شود یا تأخیر در عملکرد دستگاه ایجاد شود.
چه چیزهایی اهمیت دارد؟
ما از منابع مادون قرمز کنترلشده برای گرم کردن رزیستهای EUV استفاده میکنیم؛ این منابع شامل موجهای کوتاه و متوسط هستند. همچنین از پنجرههای کوارتزی و عناصر هالوژنی برای تولید سیگنالهای طیفی پایدار استفاده میشود. در نتیجه، دمای سطح ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند؛ همچنین الگوهای گرمایشی نیز در محدوده مشخصی تکرار میشوند. این دستگاه برای استفاده در اتاقهای تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ مناسب است؛ مواد و روکشهای مورد استفاده نیز به گونهای انتخاب شدهاند که در طول عملکرد، هیچ ذرهای تولید نشود. توان خروجی دستگاه نیز مطابق با استانداردهای مشخص شده است؛ همچنین گزینههای اتصال نیز با سیستمهای موجود سازگار هستند، بنابراین نیازی به تغییرات در سیستمهای الکتریکی نیست.
چرا این روش برای رزیستهای EUV مناسب است؟
رزیستهای EUV بسیار نازک هستند و محدودیتهای حرارتی زیادی دارند. بنابراین، دقت در کنترل دما بسیار مهم است. ما دمای گرمایشی را در محدوده مشخص شده توسط استانداردها نگه میداریم؛ این کار باعث کنترل بهتر ابعاد محصول، کاهش نقصها و حفظ کیفیت محصول میشود. همچنین، این دستگاه میتواند ۲۴/۷ بدون توقف کار کند؛ بدون وجود نقاط گرم، بدون نیاز به تعمیرات ناگهانی.
چه چیزهایی را باید در نظر بگیرید؟
نصب این دستگاه در سیستمهای استاندارد بسیار آسان است؛ اما این دستگاه باید با محیط داخلی محفظه و مسیر انتشار موجهای مادون قرمز سازگار باشد. لازم است یک آزمایش کوتاه انجام شود تا الگوهای گرمایشی تعیین شوند و یکنواختی دما بررسی گردد. عمر مفید این دستگاه بسیار طولانی است؛ معمولاً بیش از ۵۰۰۰ ساعت است؛ اما همچنان نیاز به کالیبراسیون منظم وجود دارد تا دما در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی بماند. این کالیبراسیون باید در برنامههای عملیاتی لحاظ شود؛ در نتیجه، عملکرد دستگاه در هر شیفتی پایدار خواهد بود.