جلوگیری از شعله‌ور شدن آتش در خطوط تمیزکاری شیمیایی باید صادق باشیم: استفاده از هیترهای مادون قرمز در نزدیکی مواد شیمیایی قابل اشتعال، کار بسیار...

در سیستم‌های خورشیدی با لایه‌های نازک، فضای کافی برای تغییرات دمایی وجود ندارد. تغییر دمایی ۰.۵ درجه سانتی‌گراد در حین فرآیند پختن رزیستورها،...

در فرآیند لیتوگرافی، ویفرهای ۳۰۰ میلی‌متری بلافاصله پس از تمیز شدن با دستگاه DNS، در حالت انتظار برای عملیات پختن فوتورزیست قرار می‌گیرند. این خط...