Kohlenstoffeinsparung durch präzise Infrarotbeheizung In einer Halbleiterfabrik ist die Temperatur nicht einfach nur eine Einstellung – sie ist...

Sicherstellen der Sicherheit beim Reinigen von Wafern Wenn man Wafer in einer chemischen Reinigungsanlage erhitzt, geht es im Grunde darum, mit...

Mehr Wärme auf die Siliziumwafer bringen – ohne Energieverschwendung Beim Erwärmen von Siliziumwafern geht es im Grunde darum, Energieverluste zu...

Die richtigen Infrarotreflektoren für die Aushärtung von Wafern finden Beim Aushärten von Wafern geht es um das Gleichgewicht – man braucht genug...

Verzicht auf Heißluft zugunsten von Infrarotheizung bei der Trocknung von MEMS-Wafern Lange Zeit war die gängige Methode zur Trocknung von...

Warum die richtige IR-Lampe Ihre Produktivität auf der Montagelinie effektiv steigert Wir produzieren Wärmelampen für einen einzigen Zweck: die...

In der Fertigungshalle kann bereits eine Abweichung von einem halben Grad in der Backtemperatur dazu führen, dass die kritischen Abmessungen um...

Auf der Lithografiestraße kommt das 300-mm-Wafer gerade aus dem DNS-Reiniger und wartet darauf, im Fotorezeptor gebrannt zu werden. Die Anlage...

Bei der Trocknung nach dem CMP-Prozess führen Wasserzeichen sowie die erneute Ablagerung von Partikeln weiterhin zu Produktionsverlusten. In den...

In der Fertigungsstätte befindet sich der Spüldroger direkt zwischen den Schritten der Reinigung und der Lithografie. Selbst eine...

Out on the fab floor, eine Temperaturschwankung während der Waferprüfung kostet nicht nur Taktzeit. Sie zerstört Die, senkt die Ausbeute und...