Di ruang proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada profil fotorezist yang berlaku dalam skala nanometer. Perubahan kecil ini boleh menyebabkan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah berbentuk tiub ganda untuk digunakan dalam proses-proses yang memerlukan kawalan suhu yang sangat tepat. Lampu ini membantu mengisi jurang antara alat pemanas biasa dengan keperluan ketepatan yang diperlukan oleh proses tersebut, sehingga suhu yang dihasilkan dapat dikawal dengan tepat di tempat yang diperlukan.
Apa yang penting dalam sistem ini
Sistem ini menggunakan dua tiub inframerah berfrekuensi tinggi yang dilindungi oleh lapisan kuarsa. Reaksi lampu ini sangat cepat, sehingga profil suhu dapat dikawal dengan baik semasa proses pemanasan. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah ±0.1°C, dan kebolehulangan suhu tetap konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Lampu ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan sambungan yang memastikan pengeluaran zarah-zarah berbahaya diminimakan. Output lampu tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan kurang dari 5%. Dengan demikian, parameter proses tidak akan berubah antara sesi penyelenggaraan.
Mengapa sistem ini sesuai untuk proses fotorezist
Dalam proses fotorezist, diperlukan haba yang sampai dengan cepat, stabil, dan tidak meninggalkan kesan buruk pada bahan fotorezist. Reka bentuk tiub ganda ini memungkinkan pembebasan tenaga dengan cepat, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan dalam waktu yang singkat tanpa merosakkan bahan fotorezist. Hasilnya ialah kawalan dimensi yang lebih baik, pengurangan jumlah barang yang perlu diperbaiki, serta profil suhu yang konsisten di seluruh permukaan wafer. Selain itu, sistem ini juga menjimatkan tenaga, kerana lampu hanya akan panas apabila diperlukan, dan akan sejuk dengan cepat—tanpa adanya pembaziran tenaga.
Apa yang perlu dipertimbangkan semasa pemasangan dan operasi
Pemasangan lampu ini memerlukan sumber kuasa yang khusus dan terlindung, serta jarak pemasangan yang tepat agar profil suhu dapat dikawal dengan baik. Lampu ini boleh digunakan bersama dengan kebanyakan peralatan litografi biasa, namun perlu dipastikan integrasinya dengan peralatan lain agar berfungsi dengan baik. Operasi dalam suasana kelembapan rendah akan meningkatkan ketahanan lampu dalam jangka panjang. Dalam persekitaran yang lembap, perlu dipastikan saluran udara yang digunakan untuk mengeluarkan wap air, agar tidak terjadi kondensasi pada lapisan kuarsa.