On the fab floor, perubahan 0.5°C semasa proses photoresist bake sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal dalam skala nanometer dan meningkatkan jumlah zarah. Kami membina pemanas inframerah bilik bersih kami untuk menghentikan perubahan suhu itu dari sumbernya. Ia mengunci kepada profil terma terus pada wafer, bukan hanya udara dalam ruang, supaya proses soft bake dan hard bake kekal dalam bajet terma litografi lanjutan.
Apa yang penting, dari segi teknikal
Kami menggunakan inframerah gelombang pendek dengan tindak balas pantas dan kawalan spektrum yang ketat, disesuaikan dengan penyerapan tumpukan photoresist biasa yang digunakan setiap hari. Sepanjang chuck, keseragaman pada tahap wafer dijaga pada ±0.1°C, dan kebolehulangan dicapai secara konsisten setiap kitaran. Ia beroperasi di Kelas 1–100 tanpa menambah zarah, hasil dari pemasangan pemancar kuarza yang kedap, penebatan seramik berketulenan tinggi, dan reka bentuk tanpa ekzos. Output stabil dari 100 W hingga 2.5 kW, dan kami telah menunjukkan kebolehpercayaan 24/7 selama lebih 5,000 jam dengan penurunan output kurang dari 5%.
Mengapa ia tahan dalam proses sebenar
Dalam pemprosesan photoresist, ketepatan suhu mempengaruhi penyingkiran pelarut, tekanan filem, dan kawalan dimensi kritikal (CD). Pemanas mencapai setpoint dengan cepat, jadi langkah bake menjadi lebih singkat, dan ia menghalang gangguan haba dari alat bersebelahan. Ini menghasilkan taburan CD yang lebih ketat, bilangan lot rework yang lebih rendah, dan penggunaan tenaga yang lebih rendah kerana pemindahan radiasi yang cekap dan kuasa standby yang rendah. Hasil yang boleh diramalkan. Jendela proses yang boleh diandalkan.
Butiran praktikal yang perlu anda rancangkan
Pemasangan bergantung pada padanan ruang mekanikal alat dan antara muka elektrik—biasanya kawalan 24 V dengan isolasi mematuhi CE. Pemanas berfungsi dengan optimum apabila jarak ke wafer ditetapkan dalam ±2 mm; jarak yang lebih besar mengurangkan intensiti dan boleh meluaskan julat keseragaman. Rancang untuk pemasangan yang sesuai dengan bilik bersih, dan jadualkan pemeriksaan tingkap bagi mengekalkan prestasi penyinaran dan zarah.