Mengurangkan Pelepasan Karbon Melalui Pemanasan Inframerah yang Tepat Ketika bekerja di kilang semikonduktor, suhu bukan sekadar faktor penting – ia...

Memastikan keselamatan semasa mencuci wafer Ketika anda memanaskan wafer dalam proses pembersihan menggunakan bahan kimia, sebenarnya anda sedang...

Mendapatkan lebih banyak haba pada wafer tersebut (tanpa membuang tenaga) Ketika anda memanaskan wafer silikon, sebenarnya anda sedang berusaha untuk...

Memilih Reflektor IR yang Sesuai untuk Proses Pemurnian Wafer Ketika memproses wafer, keseimbangan merupakan perkara yang sangat penting. Anda...

Menggantikan Penggunaan Udara Panas dengan Cahaya Inframerah dalam Proses Pengeringan Wafer MEMS Selama ini, cara yang digunakan untuk mengeringkan...

Mengapa lampu IR yang sesuai dapat membantu meningkatkan keuntungan di fasiliti pemasangan? Kami membuat lampu pengering wafer untuk satu tujuan...

Di bilik pemprosesan, perbezaan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal bahan tersebut sehingga ke tahap...

Di bilik proses litografi tersebut, wafer berukuran 300 mm itu baru saja keluar dari alat pembersih DNS, dan kini menunggu proses pengeringan...

Di peringkat pengeringan selepas proses CMP, kesan air dan pemendapan zarah-zarah masih boleh mengurangkan kualiti wafer yang dihasilkan. Biasanya,...

Di bilik pemprosesan wafer, alat pengering ini terletak tepat di antara proses pembersihan dan proses litografi. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja...

Out on the fab floor, satu penyimpangan suhu semasa pemeriksaan wafer bukan sahaja membazirkan masa kitaran. Ia merosakkan die, menurunkan hasil, dan...