Trong quy trình sản xuất bộ phim chống nhiệt dùng cho công nghệ EUV, sai số nhiệt độ là điều không thể chấp nhận được. Nếu nhiệt độ trong quá trình nung khô cao hơn một chút thì chất lượng wafer sẽ bị ảnh hưởng. Những yếu tố như này sẽ dẫn đến việc giảm hiệu suất sản xuất, và tình trạng này sẽ lặp đi lặp lại qua từng ca sản xuất. Các bộ phận làm nóng dưới lớp bộ phim chống nhiệt cần phải duy trì nhiệt độ ổn định, không có sự thay đổi nhiệt độ qua các ca sản xuất khác nhau, đồng thời không gây ra việc tạo ra các hạt bụi hay gián đoạn quá trình sản xuất.
Những yếu tố quan trọng Chúng tôi thiết kế bộ phận làm nóng dựa trên nguồn ánh sáng hồng ngoại có bước sóng ngắn và trung bình, kết hợp với các tấm kính thạch anh và các thành phần halogen giúp tạo ra ánh sáng ổn định. Kết quả là nhiệt độ trên bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0.1°C, và quy trình nung khô diễn ra một cách ổn định. Thiết bị này cũng được thiết kế để hoạt động trong môi trường sạch loại 1–100, với các vật liệu và chất liệu được chọn lọc kỹ lưỡng để tránh việc tạo ra bụi bẩn trong quá trình hoạt động. Động cơ của thiết bị cũng được thiết kế sao cho phù hợp với các tiêu chuẩn về công suất và điện áp, đồng thời các kết nối của thiết bị cũng phù hợp với các hệ thống hiện có, giúp việc thay thế thiết bị không cần phải sửa đổi lại hệ thống điện.
Tại sao phương pháp này hiệu quả với bộ phim chống nhiệt dùng cho công nghệ EUV Lớp bộ phim chống nhiệt dùng cho công nghệ EUV rất mỏng, và dung lượng nhiệt của nó cũng rất hạn chế. Do đó, độ chính xác trong việc kiểm soát nhiệt độ là rất quan trọng. Chúng tôi duy trì nhiệt độ ở mức mà quy trình sản xuất yêu cầu, chứ không để nhiệt độ thay đổi do các yếu tố bên ngoài. Điều này giúp kiểm soát chính xác kích thước của các chi tiết trên wafer, giảm thiểu các khiếm khuyết, và đảm bảo chất lượng sản phẩm ổn định. Ngoài ra, bộ phận làm nóng còn có thể hoạt động 24/7 mà không gặp sự cố nào – không có điểm nóng, không có sự cố kỹ thuật, và không cần phải bảo trì đột xuất.
Những điều cần lưu ý khi lắp đặt Việc lắp đặt thiết bị này khá đơn giản trên các hệ thống hiện có, nhưng bộ phận làm nóng cần phải phù hợp với cấu trúc của buồng sản xuất và đường truyền ánh sáng hồng ngoại. Bạn cần thực hiện một số thử nghiệm ngắn để xác nhận rằng quy trình nung khô diễn ra ổn định. Thời gian hoạt động của thiết bị khá dài – khoảng 5.000 giờ hoặc hơn – nhưng vẫn cần phải tiến hành calibratie định kỳ để đảm bảo nhiệt độ được duy trì ở mức ±0.1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Hãy tính toán thời gian calibratie vào lịch trình sản xuất; điều này sẽ giúp đảm bảo chất lượng sản phẩm ổn định qua từng ca sản xuất.