리소그래피 공정에서는, 베이킹 온도가 0.5°C만 변해도 포토레지스트의 특성이 나노미터 단위로 변하게 됩니다. 그러한 미세한 변화가 바로 생산 효율 저하로 이어집니다. 우리는 열 관리가 매우 중요한 공정 단계들을 위해 듀얼-튜브형 적외선 가열등을 개발했습니다. 이 장비는 대형 열 처리 장비와 정밀한 온도 제어가 필요한 공정 사이의 간극을 메워주며, 웨이퍼가 필요로 하는 위치에 정확한 열을 공급해줍니다.
내부 구조의 중요성 이 시스템은 빠른 반응 속도와 안정적인 방사율을 가진 석영으로 된 커버를 가진 듀얼-단파 적외선 튜브를 사용합니다. 반응 속도는 1초 미만이므로, 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정에서도 온도 프로파일이 일관되게 유지됩니다. 조명된 영역 전체에서 웨이퍼의 온도 균일성은 ±0.1°C 수준을 유지하며, 주기별로 온도의 반복성도 일정합니다. 램프 헤드는 클래스 1–100 등급의 청정실 환경에 적합하도록 설계되었으며, 입자 발생을 최소화하는 소재와 연결 부품을 사용합니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력의 변동은 5% 미만이므로, 유지보수 간격 동안에도 공정의 일관성이 유지됩니다.
포토레지스트 처리 공정에서의 장점 포토레지스트 처리 공정에서는 빠르게 열을 공급하고, 안정적으로 유지하며, 아무런 잔여물도 남기지 않아야 합니다. 듀얼-튜브 설계를 통해 에너지가 집중되어 빠르게 온도가 상승하므로, 필름에 부담을 주지 않고 베이킹 공정을 단축할 수 있습니다. 그 결과, 더욱 정밀한 치수 제어가 가능해지고, 재작업 횟수도 줄어듭니다. 또한, 램프가 필요할 때만 작동하고 빠르게 식기 때문에 에너지도 절약됩니다.
설치 및 운영 시 고려사항 설치 시에는 전용의 차폐된 전력 공급이 필요하며, 램프가 정확한 위치에 배치되도록 적절한 거리를 확보해야 합니다. 이 램프는 대부분의 표준 리소그래피 및 코팅/베이킹 장비와 함께 사용할 수 있지만, 인터락, 센서 매핑, 안전 기능 등을 위해 장비 수준에서의 통합 여부를 확인해야 합니다. 습도가 낮은 환경에서는 장기적인 안정성이 향상되며, 습한 환경에서는 석영 커버에 결로가 생기지 않도록 배기 시스템을 확인해야 합니다.