Mengurangi Emisi Karbon dengan Pemanasan Inframerah yang Akurat Saat bekerja di pabrik semikonduktor, suhu bukan sekadar pengaturan yang...

Mengamankan Benda-Benda Saat Membersihkan Wafer Saat memanaskan wafer di jalur pembersihan kimia, sebenarnya kita sedang bermain dengan api—atau...

Mendapatkan Panas Lebih Banyak ke Wafer Tanpa Membuang Energi Saat memanaskan wafer silikon, pada dasarnya kita sedang berusaha mengurangi hilangnya...

Memilih Reflektor Inframerah yang Tepat untuk Proses Pengecetan Wafer Saat memproses wafer, yang penting adalah keseimbangan. Anda membutuhkan panas...

Menggantikan Penggunaan Udara Panas dengan Sinar Infra Merah dalam Proses Pengeringan Wafer MEMS Selama ini, cara yang digunakan untuk mengeringkan...

Mengapa lampu IR yang tepat dapat meningkatkan keuntungan Anda di fasilitas perakitan Kami membuat lampu pengering wafer khusus untuk satu tujuan...

Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritis suatu benda hingga beberapa nanometer,...

Di lantai proses litografi tersebut, wafer berdiameter 300 mm tersebut baru saja keluar dari alat pembersih DNS, dan kini menunggu proses pengeringan...

Di tahap pengeringan setelah proses CMP, adanya noda air dan endapan partikel tetap berdampak negatif terhadap kualitas wafer. Biasanya, penyebabnya...

Di area proses pembersihan dan pengeringan ini, alat pemanas berada tepat di antara tahap pembersihan dan tahap litografi. Perubahan suhu sebesar...

Out on the fab floor, satu lonjakan suhu selama wafer probing tidak hanya membakar waktu siklus. Hal tersebut merusak die, menekan hasil produksi,...