Di tahap pengeringan setelah proses CMP, adanya noda air dan endapan partikel tetap berdampak negatif terhadap kualitas wafer. Biasanya, penyebabnya adalah profil termal yang tidak stabil selama proses pengeringan. Kami merancang alat pengering wafer setelah proses CMP agar dapat menghilangkan variabilitas tersebut, bukannya menambahnya.
Yang penting secara teknis: Kami menggunakan elemen inframerah berpanjang gelombang pendek di balik kaca kuarsa, sehingga energi tersebut dapat mencapai wafer secara langsung dan cepat—tanpa melebihi batas yang ditentukan. Di zona aktif, kami menjaga keseragaman suhu wafer pada kisaran ±0,1°C. Repeatabilitasnya pun tetap terjaga karena adanya sistem kontrol loop tertutup yang memantau suhu aktual secara real-time. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Bahan-bahan dan komponen pengunci yang digunakan dirancang sedemikian rupa sehingga generasi partikel dapat diminimalkan hingga nol setelah proses pengeringan selesai.
Mengapa cara ini efektif untuk pengeringan setelah proses CMP: Tugasnya sederhana: menghilangkan lapisan cairan pembersih secara bersih, cepat, dan tanpa sisa. Kontrol termal yang ketat membuat tegangan permukaan tetap konstan dari satu batch ke batch lainnya—dan hal ini langsung mengurangi kecacatan pada wafer. Stabilitas ini juga berdampak positif pada proses fotoresist. Profil pemanasan yang konsisten membuat dimensi kritis dan tekstur permukaan wafer tetap stabil. Alat ini juga dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, sehingga produksi tetap stabil dan perawatannya mudah diprediksi.
Hal-hal yang perlu diketahui sebelumnya: Proses pemasangan membutuhkan penyesuaian geometri ruang bersih serta pengaturan antarmuka pendingin dan sistem pembuangan udara dengan tepat. Kami menyediakan gambar-gambar panduan untuk proses pemasangan, tetapi Anda masih perlu melakukan pengecekan langsung di lapangan. Lakukan proses pemanasan singkat sebelum memulai proses pengeringan untuk mencapai keseimbangan termal. Itulah kompromi yang harus diterima demi mendapatkan repeatabilitas yang diinginkan. Setelah semuanya terpasang dengan benar, alat ini akan mempertahankan keseimbangan termal dan menjaga stabilitas proses pengeringan.