Menggantikan Penggunaan Udara Panas dengan Sinar Infra Merah dalam Proses Pengeringan Wafer MEMS
Selama ini, cara yang digunakan untuk mengeringkan wafer sensor MEMS adalah dengan menyiram udara panas ke permukaannya. Itu merupakan metode lama. Anda hanya mengandalkan konveksi udara untuk memindahkan panas ke permukaan wafer, dengan harapan uap air akan menguap.
Masalahnya? Proses ini sangat lambat. Anda harus menunggu selama beberapa menit agar udara panas dapat mencapai bagian-bagian kecil di dalam wafer MEMS. Ini merupakan hambatan yang serius bagi proses produksi.
Itulah sebabnya kita beralih ke penggunaan sinar infra merah (IR) untuk proses pemanasan. Alih-alih memanaskan udara, sinar IR mengirimkan energi langsung ke wafer.
Mengapa cara ini jauh lebih cepat?
Bayangkan saja: sinar IR menargetkan molekul-molekul air secara langsung. Energi tersebut membuat air bereaksi dan langsung menguap. Prosesnya berlangsung dalam waktu singkat sekali.
Anda tidak perlu menunggu alat peniup udara atau kipas angin untuk memindahkan panas ke seluruh permukaan wafer. Dengan demikian, proses pengeringan menjadi jauh lebih cepat. Dalam proses produksi yang nyata, waktu tunggu yang diperlukan bisa dikurangi dari menit-menit menjadi beberapa detik saja. Ini merupakan keuntungan besar bagi waktu produksi.
Bagian yang perlu diperhatikan
Namun, Anda tidak bisa begitu saja mengganti pemanas biasa dengan lampu inframerah. Sinar IR memiliki intensitas yang sangat tinggi. Jika posisi lampu tidak tepat atau daya yang digunakan terlalu tinggi, maka wafer bisa rusak akibat benturan termal. Anda membutuhkan kontroler PID yang baik untuk mengatur proses pemanasan agar tidak merusak wafer.
Kami biasanya menggunakan emitor inframerah berfrekuensi pendek. Emitor ini mampu menembus permukaan wafer dengan intensitas yang tinggi, sehingga residu air dapat dikeringkan dengan cepat, tanpa merusak seluruh substrat wafer.
Membuat perangkat keras berfungsi dengan baik
Anda juga perlu memperhatikan tata letak perangkat kerasnya. Lampu inframerah membutuhkan ruang yang jauh lebih sedikit dibandingkan alat peniup udara yang berukuran besar beserta saluran udaranya. Namun, pastikan daya listrik yang digunakan cukup untuk mendukung sistem ini.
Ketika Anda meningkatkan kapasitas produksi MEMS, waktu yang dihemat per wafer akan menjadi keuntungan besar pada akhir shift produksi. Ini merupakan perubahan cara berpikir yang sederhana: alih-alih memindahkan udara, gunakanlah foton untuk proses pemanasan.