На этапе после процедуры CMP водяные пятна и осадок частиц по-прежнему снижают качество готовых изделий. Чаще всего причиной является нестабильный температурный режим во время сушки. Мы разработали специальный нагреватель для сушки пластин после CMP, чтобы устранить эту нестабильность, а не усугубить её.
Что имеет значение с технической точки зрения
Мы используем инфракрасные элементы коротковолнового диапазона, расположенные за кварцевым стеклом. Это позволяет энергии быстро достигать поверхности пластины, без перегрева самой подложки. В активной зоне мы поддерживаем однородность температуры в пределах ±0,1°C. Повторяемость процесса обеспечивается благодаря калиброванной системе контроля, которая в реальном времени отслеживает фактическую температуру и корректирует её в соответствии с заданными параметрами. Устройство может использоваться в чистых комнатах класса 1–100. Материалы и уплотнители выбраны таким образом, чтобы исключить возникновение частиц в состоянии стабильной работы устройства.
Почему это работает при сушке после процедуры CMP
Задача проста: необходимо эффективно и быстро удалить слой жидкости с поверхности пластины, не оставляя следов. Стабильный температурный контроль обеспечивает одинаковое поведение поверхности при каждой партии продукции, что напрямую снижает количество дефектов. Та же стабильность полезна и при использовании фоторезиста: процессы «мягкой» и «жесткой» сушки проходят стабильно, без изменений размеров или шероховатости краев линий. Устройство может работать круглосуточно без перерывов, что обеспечивает стабильную производительность и предсказуемость в процессе обслуживания.
Что нужно знать заранее
Установка устройства требует соответствия геометрии камеры, а также правильного расположения систем охлаждения и вентиляции. Мы предоставляем чертежи, но все равно необходимо проверить соответствие на месте. Необходимо провести короткую процедуру разогрева перед первой партией продукции. Это необходимо для обеспечения повторяемости процесса. После настройки устройство поддерживает стабильную температуру, сохраняя стабильность всего процесса.