Na área de litografia, o processamento do resistente EUV não tolera desvios térmicos. Se a temperatura de aquecimento for ligeiramente maior do que o necessário, isso pode causar desvios na qualidade do wafer. Isso faz com que haja perda de produtividade, de maneira silenciosa e recorrente, a cada turno de produção. Os componentes de aquecimento localizados sob o resistente precisam manter uma temperatura constante, independentemente dos turnos e das levas de produção, sem gerar partículas ou causar paradas indevidas.
O que é importante por trás disso
Construímos os aquecedores para o resistente EUV com base em fontes de infravermelho controladas – de ondas curtas e médias –, combinadas com janelas de quartzo e elementos halógenos, escolhidos por sua capacidade de fornecer um espectro luminoso estável. Isso permite uma uniformidade térmica dentro de ±0,1°C em toda a superfície do resistente. Além disso, os perfis de aquecimento são consistentes entre si. O equipamento é adequado para ambientes de classe 1–100, com materiais e acabamentos selecionados para evitar a geração de partículas durante o funcionamento. A potência e a tensão do equipamento estão em conformidade com os padrões estabelecidos, e as opções de conector permitem que o equipamento seja integrado às linhas de produção existentes, sem a necessidade de reconfigurações complexas.
Por que isso funciona bem para o resistente EUV
Os revestimentos utilizados no resistente EUV são finos, e o orçamento térmico é limitado. A precisão é mais importante do que a potência bruta. Mantemos a temperatura de aquecimento nos valores especificados pelo processo, e não nos valores determinados pelos desvios térmicos. Isso resulta em melhor controle das dimensões críticas, menos defeitos e maior qualidade na produção. Além disso, o aquecedor funciona 24/7, sem paradas indesejadas – sem pontos quentes, sem interrupções ou necessidade de manutenção imprevista.
O que você precisa planejar
A instalação é simples, nas linhas de produção padrão. No entanto, o aquecedor precisa se adaptar à geometria da câmara e ao caminho do infravermelho. É necessário realizar um teste inicial para ajustar os perfis de aquecimento e confirmar a uniformidade da temperatura. A vida útil do equipamento é longa – mais de 5.000 horas é o padrão – mas ainda é necessária calibração periódica para manter a uniformidade térmica dentro de ±0,1°C em todo o diâmetro do wafer. Inclua essa calibração no cronograma de manutenção; assim, terá exposições estáveis de EUV, a cada turno de produção.