Na fase de secagem pós-CMP, as marcas causadas pela água e a deposição de partículas ainda afetam negativamente a qualidade dos wafers. Na maioria das vezes, o culpado é um perfil térmico instável durante o processo de secagem. Por isso, desenvolvemos um aquecedor especial para a secagem dos wafers após o processo CMP, com o objetivo de eliminar essa variabilidade – e não contribuir para ela.
O que é importante, do ponto de vista técnico: Utilizamos elementos infravermelhos de onda curta atrás de uma janela de quartzo, de modo que a energia atinja o wafer diretamente e rapidamente – sem ultrapassar o substrato. Na zona ativa, mantemos a uniformidade da temperatura em torno de ±0,1°C. A repetibilidade é garantida por meio de um controle em circuito fechado, que monitora em tempo real a temperatura real em relação ao valor desejado. O equipamento pode ser usado em salas limpas de classe 1–100. Os materiais e selos utilizados são escolhidos para manter a geração de partículas em zero, uma vez que o sistema está em estado estacionário.
Por que funciona na secagem pós-CMP: A tarefa é simples: remover a camada de resíduos do wafer de maneira eficiente e rápida, sem deixar resíduos. Um controle térmico preciso faz com que a tensão superficial permaneça constante, lote após lote – o que reduz significativamente os defeitos.
Essa mesma estabilidade também se reflete no processo de fotoresist. Os perfis de secagem permanecem consistentes, evitando assim variações nas dimensões críticas ou irregularidades nas bordas das linhas. Além disso, o aquecedor funciona 24/7, sem paradas inesperadas, o que mantém a produtividade constante e a manutenção previsível.
Coisas que você deve saber antes de começar: A instalação depende da adaptação da geometria da câmara e da correta configuração das interfaces de refrigeração e exaustão. Nós fornecemos os desenhos das interfaces, mas você ainda precisa realizar verificações no local.
Planeje um período de aquecimento breve antes de iniciar o primeiro lote. É esse o custo necessário para obter a repetibilidade desejada. Uma vez alinhado, o equipamento mantém o controle térmico sob controle, preservando assim as condições ideais para o processo.