Op de lithografievloer weet je hoe het gaat: een halve graad drift in baktijd, en je kritische dimensiecontrole ligt plotseling buiten specificatie. De robijn-infrarood verwarmingslamp, 230V, is ontworpen om dat thermische profiel op doel te houden—constant, uur na uur, of je nu een zachte of harde bak uitvoert.
Wat belangrijk is onder de motorkap
Het is een robijn-doped kwartsomhulling, die korte golf infrarood pompt voor snelle, gelokaliseerde verwarming met een snelle afkoeling. Bij 230V past het perfect in standaard halfgeleider gereedschap stroomarchitecturen en blijft stabiel in modules met hoge duty-cycles. Thermische uniformiteit over de doelzone blijft binnen ±0,1°C, en de geometrie van de gloeidraad is ontworpen om gradiënten direct op het wafervlak te minimaliseren. De materialen en afdichtingen zijn gekozen voor ultra-lage uitgassing, zodat het aantal deeltjes binnen de Class 1–100 cleanroomlimieten blijft.
Waarom dit belangrijk is voor fotopolymeer
Fotopolymeer is kieskeurig als het gaat om zijn thermische geschiedenis. Deze lamp houdt de baktijd stabiel, wat de herhaalbaarheid van partij tot partij verbetert en de uitstapjes in CD- en residu-metrieken vermindert. De snelle respons verkort de cyclusduur zonder in te boeten op profielcontrole, en de efficiënte infraroodkoppeling verlaagt de energie per wafer. Veldunits zien meer dan 5.000 uren met minder dan 5% outputdrift, wat zich vertaalt in minder interventies en meer voorspelbare onderhoudsperiodes.
Veldnotities waar je blij mee zult zijn
Installatie komt neer op oriëntatie. De lamp presteert het beste wanneer deze is uitgelijnd langs de optische as van het gereedschap; kantel deze verder dan de specificatie en je introduceert niet-uniformiteit. Zorg ervoor dat de bevestiging en reflector compatibel zijn met 230V, en bevestig dat de interlock en thermische monitoring overeenkomen met de responstijd van de korte golfbron. Behandel de omhulsel als een precisiecomponent—vermijd contact met oliën of oplosmiddelen tijdens het hanteren, anders loop je het risico op besmetting die de deeltjesgeneratie kan verhogen.