V továrně není toto vysoušení fotorezistentu jen doporučením – jedná se o základní parametr pro správné fungování procesu. Rozdíl 2 °C při měkkém...

V prostorách určených k oplachování a sušení se tento ohřívač nachází přímo mezi fázemi čištění a litografie. I náznak změny teploty o 0,5 °C může...