停止为机器本身加热，改为直接为晶圆加热
大多数红外灯的加热方式相当混乱——它们会将热量向四周散发，即360度全方位扩散。在处理精密的半导体设备时，这无疑是个问题。
大部分能量根本无法照射到晶圆上，而是直接击中机器的内壁。结果就是，机器的壳体会变得非常烫，甚至可能烫伤操作员的手；同时，冷却风扇也必须持续工作以防止设备过热。这种做法其实是一种浪费。
将热量精准地传递到需要加热的位置
我们采用无臭氧的红外技术来解决这个问题。通过使用特殊的石英涂层和反射器，我们可以将辐射能量集中到某个特定的方向上。这样一来，热量就能准确地作用于目标区域，而不会浪费在空气或金属框架上。
至于臭氧的问题——这是绝对不能容忍的。普通的短波灯会产生臭氧，这对敏感的半导体表面来说危害极大，还会破坏设备的密封性能。我们的设备能够在臭氧产生的过程中就将其消除。
需要考虑的权衡因素及应对方法
不过，当把所有热量集中在一个点上时，其密度会急剧上升。虽然机器的壳体仍然保持凉爽，但目标区域的温度则会显著升高。因此，您需要仔细检查PID控制器。如果不进行校准，就有可能导致温度超限。
另外，如果您正在对旧系统进行升级，那么还需要注意设备的安装方式。这类高密度灯具威力很大，确保其安装支架不会因为受到热量影响而变形。
为操作员创造更舒适的工作环境
采用定向加热的方式可以彻底解决“设备外壳过热”的问题。这样，操作员就可以在更接近设备的地方工作，而不用担心被外壳烫伤。此外，设备内部的整体温度也会降低。这对于其他电子元件来说也是好处，因为它们不再需要承受过高的温度才能正常工作。