Sấy Khô on Handcrafted Warm IR Heaters

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Fri, 10 Jul 2026 02:12:43 +0800

Thay thế phương pháp sử dụng không khí nóng bằng phương pháp sử dụng ánh sáng hồng ngoại trong quá trình sấy các tấm wafer MEMS
Trong thời gian dài, phương pháp được sử dụng để sấy các tấm wafer cảm biến MEMS chính là việc thổi không khí nóng lên bề mặt chúng. Đó là phương pháp truyền thống. Về cơ bản, phương pháp này dựa vào hiệu ứng đối lưu để truyền nhiệt sang bề mặt wafer, hy vọng rằng hơi ẩm sẽ bay hơi.

Đèn sấy wafer bán buôn

Mon, 06 Jul 2026 04:35:10 +0800

Tại sao bóng đèn hồng ngoại chất lượng cao lại giúp tăng hiệu quả kinh doanh trong quy trình lắp ráp?
Chúng tôi chế tạo các bóng đèn dùng để sấy khô wafer, dành riêng cho các khu vực lắp ráp và kiểm tra với khối lượng công việc lớn. Đơn giản thôi.
Mục đích của chúng là giúp bạn xử lý nhiều sản phẩm hơn mà không làm tăng chi phí vận hành. Khi chúng tôi nói về “chất lượng cao”, chúng tôi không chỉ nói suông; chúng tôi muốn nói đến tính ổn định của bóng đèn – điều mà bạn có thể tin tưởng khi quy trình sản xuất không bao giờ dừng lại.

Lò sấy wafer sau quy trình CMP

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

Trong quá trình sấy sau CMP, các vết nước và các hạt bụi vẫn còn tồn tại trên bề mặt wafer, điều này làm giảm chất lượng sản phẩm. Nguyên nhân thường gặp nhất chính là sự biến động về nhiệt độ trong quá trình sấy. Chúng tôi đã thiết kế bộ sấy wafer sau CMP sao cho có thể loại bỏ những yếu tố gây biến động này, thay vì gia tăng chúng.

Đèn sấy màn hình linh hoạt fab

Fri, 05 Jun 2026 01:52:16 +0800

Trên dây chuyền màn hình linh hoạt, năng suất phụ thuộc vào kiểm soát nhiệt. Một quá trình Soft Bake chênh lệch ngay cả 2°C cũng làm mất đồng nhất CD. Một quá trình Hard Bake chạy quá nóng hoặc quá lạnh khiến hồ sơ chất cảm quang trở nên không thể dự đoán, và việc chuyển etch trở nên lởm chởm. Đèn sấy không thể chỉ là nguồn nhiệt—nó phải hoạt động như một thiết bị quy trình đúng nghĩa.
Những gì quan trọng bên trong: chúng tôi đã xây dựng đèn sấy dựa trên NIR, với quang học thạch anh cho việc gia nhiệt nhanh chóng và không tiếp xúc. Trong vùng chiếu sáng, độ đồng nhất ở mức wafer giữ ±0.1°C, vì vậy mỗi quá trình Soft Bake và Hard Bake đều nhận cùng một ngân sách nhiệt. Nó được thiết kế cho phòng sạch lớp 1–100: phát thải thấp và không tạo ra hạt bụi trong hoạt động ổn định. Đèn có thể hoạt động 24/7 với đầu ra dự đoán được, và khả năng lặp lại giữ ổn định qua các lô sản xuất.
Tại sao điều này hoạt động trong các nhà máy sản xuất màn hình linh hoạt: các nền tảng rất mỏng và nhạy cảm với nhiệt. Đèn gia nhiệt nhanh trong khi vẫn giữ kiểm soát chặt chẽ, vì vậy bạn rút ngắn thời gian chu kỳ mà không gây áp lực lên cấu trúc. Hồ sơ photoresist giữ ổn định, điều này giúp giữ overlay trong tiêu chuẩn và kiểm soát kích thước etch nhất quán. Sử dụng năng lượng giảm vì đèn chỉ làm nóng khu vực mục tiêu, và số lượng lô làm lại ít hơn có nghĩa là giảm phế phẩm.
Dưới đây là những điều cần lưu ý. Đèn cần một nguồn cung cấp điện sạch và ổn định cùng quản lý nhiệt đúng cách tại điểm tích hợp. Nó tương thích với hầu hết các đường lithography và coating, nhưng bạn phải xác nhận giao diện gắn và tín hiệu điều khiển trong quá trình lắp đặt. Lập kế hoạch một quá trình chạy thử ngắn để khóa các công thức Soft Bake và Hard Bake, sau đó xác minh cửa sổ quy trình trước khi tăng sản lượng.