Віфлеїм on Handcrafted Warm IR Heaters

Оптові лампи для сушіння вафер

Mon, 06 Jul 2026 04:35:11 +0800

Чому правильна ІЧ-лампа допомагає підвищити вашу прибутковість на лінії збірки
Ми виробляємо лампи для сушіння пластин лише для однієї мети – для ліній з великою кількістю операцій збірки та тестування. Просто та зрозуміло.
Яка ж мета? Допомогти вам обробити більшу кількість одиниць без значних витрат.
Коли ми говоримо про „лампи преміум-класу“, ми не використовуємо якісь модні терміни. Ми маємо на увазі можливість точного контролю температури. Такої точності, яка дозволяє продовжувати роботу без перерв.

Енергія, напруга, розмір: те, що справді має значення
Це лампи з високою щільністю інфрачервоного випромінювання, призначені для швидкого та точного нагрівання.
Ми використовуємо напругу 400 В, оскільки це дозволяє передавати енергію на більші відстані з меншою потужністю. Це значить менші втрати в кабелях та простіша конструкція.
Розмір лампи становить 300 мм, тож можливий точний контроль температури – тепло потрапляє саме туди, де потрібно, без необхідності перетворення всієї лампи на „сауну“.
Результат? Температура швидко досягає потрібного рівня, параметри залишаються стабільними, а енергія не марнується.

Лампа для сушарки пластин DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

На поверхні літографічного обладнання кристал діаметром 300 мм щойно вийшов з пристрою для чищення DNS та зараз чекає на процедуру висушування з використанням фотостабілізатора. Установка не може допустити відхилень температури більше ніж ±0,5 °C, а чиста кімната не дозволяє наявності зайвих частинок. Якщо температурний профіль зміниться навіть трохи, це призведе до втрати контролю над параметрами процесу та, відповідно, до зниження якості продукції.

Точність інфрачервоного нагрівання: однорідність та повторюваність значень на рівні під міліметр
Лампа для висушування кристалів у пристрої DNS складається з короткохвильових інфрачервоних випромінювачів, налаштованих таким чином, щоб вони ефективно впливали на фотостабілізатор. Це забезпечує однорідність температури на всій поверхні кристала, а також можливість точного контролю температури під час процедури висушування. Замкнений контур керування забезпечує точне дотримання параметрів процесу, тож кожна партія продукції отримує однакові умови обробки.

Нагрівач для сушіння пластин після процедури CMP

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

На етапі сушіння після процедури CMP все ще існують проблеми, пов’язані з розташуванням крапель води та осадженням частинок на поверхні пластини. Часто причиною є нестабільний тепловий профіль під час сушіння. Ми створили спеціальний нагрівач для сушіння пластин післяCMP, щоб усунути цю проблему – а не додати ще більше складнощів.

Що є важливим з технічної точки зору
Ми використовуємо елементи короткохвильового інфрачервоного випромінювання, розташовані за кварцовим склом. Це дозволяє енергії потрапляти безпосередньо на поверхню пластини та швидко її нагрівати – без перегріву самої пластини. У активній зоні ми підтримуємо однорідність температури на рівні ±0,1°C. Однорідність зберігається завдяки каліброваній системі контролю, яка постійно порівнює задану температуру з фактичною в режимі реального часу. Пристрій підходить для чистих приміщень класу 1–100; матеріали та елементи герметизації обрані так, щоб у стабільному режимі не виникало жодних частинок.