Lâmpada de secagem de wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

No ambiente de litografia, o wafer de 300 mm sai do purificador DNS e fica aguardando o processo de secagem com fotoreleitor. A linha de produção não tolera variações de temperatura de ±0,5 °C, e a sala limpa também não aceita a presença de partículas indesejadas. Se houver qualquer desvio no perfil térmico, perde-se o controle da espessura do filme fotográfico – e, consequentemente, a produtividade.

Precisão do aquecimento por infravermelho: uniformidade e repetibilidade em nível submilimétrico
A lâmpada usada para secar os wafers no processo DNS é composta por emissores de ondas curtas de infravermelho, ajustados de acordo com a forma como os fotoreleitores absorvem esse tipo de radiação. Isso garante uma uniformidade térmica em nível submilimétrico ao longo de toda a superfície do wafer, além de um controle preciso da temperatura durante os processos de secagem. O controle em circuito fechado mantém a temperatura exatamente onde é necessário, garantindo que cada lote tenha o mesmo perfil térmico, turno após turno.

DNS on Handcrafted Warm IR Heaters

Lâmpada de secagem de wafer DNS (Screen)