Aquecedor de secagem de wafers pós CMP

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

Na fase de secagem pós-CMP, as marcas causadas pela água e a deposição de partículas ainda afetam negativamente a qualidade dos wafers. Na maioria das vezes, o culpado é um perfil térmico instável durante o processo de secagem. Por isso, desenvolvemos um aquecedor especial para a secagem dos wafers após o processo CMP, com o objetivo de eliminar essa variabilidade – e não contribuir para ela.

O que é importante, do ponto de vista técnico: Utilizamos elementos infravermelhos de onda curta atrás de uma janela de quartzo, de modo que a energia atinja o wafer diretamente e rapidamente – sem ultrapassar o substrato. Na zona ativa, mantemos a uniformidade da temperatura em torno de ±0,1°C. A repetibilidade é garantida por meio de um controle em circuito fechado, que monitora em tempo real a temperatura real em relação ao valor desejado. O equipamento pode ser usado em salas limpas de classe 1–100. Os materiais e selos utilizados são escolhidos para manter a geração de partículas em zero, uma vez que o sistema está em estado estacionário.

CMP on Handcrafted Warm IR Heaters

Aquecedor de secagem de wafers pós CMP