Wafel on Handcrafted Warm IR Heaters

Precisie IR sensor voor wafer

Fri, 24 Jul 2026 09:46:36 +0800

Het verminderen van koolstofuitstoot met precisie-IR-verwarming
Wanneer je werkt in een半导体fabriek, is temperatuur geen simpel instellingsoptie – het is allesbepalend. Als de temperatuur zelfs maar een beetje verkeerd is, is de hele productie waardeloos.

We hebben ontdekt dat kortegolfige IR-verwarming de oplossing is. Waarom? Omdat deze manier van verwarmen de lucht rondom de siliciumplaat niet hoeft op te warmen. De energie wordt rechtstreeks in het materiaal gebracht. Hierdoor wordt er minder energie verspild, waardoor ook de koolstofuitstoot afneemt.

Energiezuinige waferverwarmer

Thu, 23 Jul 2026 09:49:57 +0800

Het behouden van de veiligheid bij het reinigen van wafers
Wanneer je wafers verwarmt in een chemische reinigingslijn, werk je eigenlijk met vuur – of in ieder geval met stoffen die gemakkelijk kunnen ontploffen. Standaard infraroodlampen zijn niet geschikt voor zulke omstandigheden. Ze zouden een ramp veroorzaken.

Om dit te voorkomen, wikkelen we de verwarmende elementen in een speciaal soort bescherming. Hierdoor blijven de chemische stoffen uit de buurt van de warmtebron, terwijl de warmte toch door kan dringen naar waar het nodig is.

Veiligheidsafstand voor waferverwarming

Wed, 22 Jul 2026 02:58:50 +0800

Meer warmte op de siliciumwafels krijgen (zonder energieverlies)
Wanneer je siliciumwafels verwarmt, moet je vooral proberen energieverlies te vermijden. Het probleem is dat standaard kwartslampen warmte in alle richtingen verspreiden – namelijk over een hoek van 360 graden. Als er geen goede reflector wordt gebruikt, gaat de helft van de energie verloren in het chassis van de machine. Dat is zonde.

Om dit op te lossen gebruiken we goudcoateerde reflectoren. Hierdoor wordt de energie niet verspild, maar rechtstreeks op de wafel gericht.

Reflector voor wafer curelamp

Sat, 11 Jul 2026 05:48:23 +0800

Het juiste gebruik van IR-reflectoren voor het drogen van chips
Bij het drogen van chips is het belangrijk om een balans te vinden. Er moet voldoende warmte zijn om de chips chemisch stabiel te houden, maar als je te veel warmte gebruikt, kan het substraat beschadigen. Het is dus een kwestie van precisie.

Om dit goed te doen, gebruiken we infraroodlampen in combinatie met gespecialiseerde reflectoren. Hierdoor wordt de energie precies op de juiste plek gestuurd. Tegenwoordig praat iedereen over ‘groene fabrieken’ en koolstofneutraliteit. Maar uiteindelijk komt het erop neer dat je geen overtollige warmte meer naar het apparaat moet sturen. Dat is immers verspilling van energie.

MEMS sensoreenvriesdroger

Fri, 10 Jul 2026 02:12:43 +0800

Het vervangen van hete lucht door infraroodverwarming bij het drogen van MEMS-chips
Lang was het gebruikelijke procedé om MEMS-sensorchips te drogen, gewoon hete lucht over ze heen blazen. Het is een ouderwetse manier. Hierbij wordt gebruik gemaakt van con Vecatie om warmte over het oppervlak te brengen, in de hoop dat de vochtigheid kan verdampen.

Het probleem? Het proces is ontzettend langzaam. Je moet minutenlang wachten tot de lucht echt in de kleine spleten en structuren van de MEMS-chip komt. Dit vormt een belemmering voor het productieproces.

Groothandelslamp voor het drogen van wijfers

Mon, 06 Jul 2026 04:35:12 +0800

Waarom de juiste IR-lamp je winst op de assemblageafdeling flink kan verhogen
Wij maken lampen voor het drogen van wafers, en dat gebeurt uitsluitend op de afdelingen waar veel producten worden geproduceerd en getest. Het is simpel gezegd: we helpen je om meer producten te produceren, zonder dat de kosten te hoog worden.

Als we het hebben over ‘foundry-grade’-lampen, bedoelen we dat deze lampen zeer betrouwbaar zijn en consistent werken. Je kunt erop rekenen dat ze altijd goed functioneren, ook wanneer de productie onophoudelijk doorgaat.

DNS (Screen) druivendrogerlamp

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Op de lithografielijn komt die 300 mm grote wafer net uit de DNS-reiniger. Hij wacht nu op het verhitten met fotoresist. De lijn kan geen afwijkingen van ±0,5 °C verdragen, en in de schone ruimte mogen er geen extra deeltjes zijn. Als het thermische profiel zelfs maar iets afwijkt, raak je de controle over de temperatuur kwijt – en daarmee ook de productiecapaciteit.

Nauwkeurigheid van infraroodverwarming: submillimeternauwkeurigheid en herhaalbaarheid
De lamp voor het drogen van de wafer gebruikt korte golflengten infraroodstraling, die is afgestemd op de manier waarop fotoresist zich gedraagt onder invloed van warmte. Hierdoor wordt er een submillimeternauwe temperatuurstabiliteit bereikt over het hele oppervlak van de wafer. Bovendien wordt de gewenste temperatuur consequent behouden, zodat de temperatuur altijd binnen de vereiste toleranties blijft, zowel tijdens het zachte als het harde verhitten. Dankzij de gesloten regelingscyclus blijft de temperatuur precies zoals nodig, zodat elke lading dezelfde temperatuurprofielen heeft.

Verwarmder voor het drogen van CMP wafers

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

Op het einde van het proces blijven watervlekken en het opnieuw neerslaan van deeltjes na de CMP-procedure het rendement beperken. Meestal is de oorzaak een onstabiel thermisch profiel tijdens het drogen. We hebben onze droogapparaten na de CMP zo ontworpen dat deze variabiliteit worden weggenomen – in plaats van te worden verhoogd.

Wat technisch gezien belangrijk is
We gebruiken kortegolflange infraroodstralen die via een kwartsraam worden afgegeven. Hierdoor komt de energie rechtstreeks en snel op het wafer terecht – zonder dat deze energie het substraat bereikt. In de actieve zone houden we de uniformiteit van de temperatuur op het wafer op ±0,1°C. De herhaalbaarheid blijft hoog, omdat er een gekalibreerde closed-loop-regeling wordt gebruikt om de gewenste temperatuur in real time te controleren. Het apparaat past in schone ruimtes van klasse 1–100. De materialen en sluitingen zijn zodanig gekozen dat er geen deeltjes meer worden gegenereerd zodra het apparaat in een stabiele staat is.

Kwartsverwarmer voor wafer was en droogapparaat

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

Op de productielocatie staat de spoel- en droogapparaat precies tussen de reinigingsstap en de lithografiestap. Een temperatuurverschil van maar 0,5°C kan al zorgen voor ‘watermerken’ op de wafer – of erger nog: het kan leiden tot een herverhitting van het fotoresistmateriaal na de verzegeling. We hebben onze kwartsverwarmer speciaal ontworpen voor deze spoel- en droogapparaten; hier zijn thermische respons, reinheid en herhaalbaarheid cruciaal voor de kwaliteit van het eindproduct.

Wat technisch gezien belangrijk is
Het hart van de verwarmer is een kortegolfkwartsinfraroodemitter, gekozen vanwege de snelle reactietijd en nauwkeurige temperatuurregeling. We streven ernaar om een temperatuurstabiliteit van ±0,1°C te bereiken over de hele oppervlakte van de wafer. De temperatuur kan worden geregeld tussen 50°C en 250°C, en de reactietijd is minder dan 2 seconden. Dankzij de gesloten regelingsloop blijft de temperatuur constant, zodat delicate structuren niet beschadigen tijdens het etchen en CMP-proces. Het lichaam van de verwarmer is gemaakt van ultra-hoge zuiverheid kwarts, compatibel met zuiverruimten van klasse 1–100. De oppervlakte is zo ontworpen dat er zo min mogelijk deeltjes ontstaan. De verwarmer kan 24/7 draaien, zonder dat er temperatuurverschillen optreden die een recalibratie vereisen.