Kwartsverwarmer voor wafer was en droogapparaat

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

Op de productielocatie staat de spoel- en droogapparaat precies tussen de reinigingsstap en de lithografiestap. Een temperatuurverschil van maar 0,5°C kan al zorgen voor ‘watermerken’ op de wafer – of erger nog: het kan leiden tot een herverhitting van het fotoresistmateriaal na de verzegeling. We hebben onze kwartsverwarmer speciaal ontworpen voor deze spoel- en droogapparaten; hier zijn thermische respons, reinheid en herhaalbaarheid cruciaal voor de kwaliteit van het eindproduct.

Wat technisch gezien belangrijk is
Het hart van de verwarmer is een kortegolfkwartsinfraroodemitter, gekozen vanwege de snelle reactietijd en nauwkeurige temperatuurregeling. We streven ernaar om een temperatuurstabiliteit van ±0,1°C te bereiken over de hele oppervlakte van de wafer. De temperatuur kan worden geregeld tussen 50°C en 250°C, en de reactietijd is minder dan 2 seconden. Dankzij de gesloten regelingsloop blijft de temperatuur constant, zodat delicate structuren niet beschadigen tijdens het etchen en CMP-proces. Het lichaam van de verwarmer is gemaakt van ultra-hoge zuiverheid kwarts, compatibel met zuiverruimten van klasse 1–100. De oppervlakte is zo ontworpen dat er zo min mogelijk deeltjes ontstaan. De verwarmer kan 24/7 draaien, zonder dat er temperatuurverschillen optreden die een recalibratie vereisen.

Spoelen on Handcrafted Warm IR Heaters

Kwartsverwarmer voor wafer was en droogapparaat