DNS (Screen) druivendrogerlamp

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Op de lithografielijn komt die 300 mm grote wafer net uit de DNS-reiniger. Hij wacht nu op het verhitten met fotoresist. De lijn kan geen afwijkingen van ±0,5 °C verdragen, en in de schone ruimte mogen er geen extra deeltjes zijn. Als het thermische profiel zelfs maar iets afwijkt, raak je de controle over de temperatuur kwijt – en daarmee ook de productiecapaciteit.

Nauwkeurigheid van infraroodverwarming: submillimeternauwkeurigheid en herhaalbaarheid
De lamp voor het drogen van de wafer gebruikt korte golflengten infraroodstraling, die is afgestemd op de manier waarop fotoresist zich gedraagt onder invloed van warmte. Hierdoor wordt er een submillimeternauwe temperatuurstabiliteit bereikt over het hele oppervlak van de wafer. Bovendien wordt de gewenste temperatuur consequent behouden, zodat de temperatuur altijd binnen de vereiste toleranties blijft, zowel tijdens het zachte als het harde verhitten. Dankzij de gesloten regelingscyclus blijft de temperatuur precies zoals nodig, zodat elke lading dezelfde temperatuurprofielen heeft.

DNS on Handcrafted Warm IR Heaters

DNS (Screen) druivendrogerlamp