Twee tubige infrarode verwarmlamp

Thu, 02 Jul 2026 04:08:47 +0800

Op het gebied van lithografie zorgt een verschil van 0,5°C in de baktemperatuur er voor dat het profiel van de fotoresist met nanometers verandert. Die kleine veranderingen leiden tot een verlies aan productiekwaliteit. We hebben een infraroodverwarmingslamp met twee buizen ontwikkeld, speciaal voor situaties waarin een precisietemperatuur essentieel is. Deze lamp vult de kloof tussen de standaardthermische apparaten en de preciesheid die je proces vereist. Hierdoor kan de gewenste temperatuur nauwkeurig worden geregeld, precies waar de wafer dat nodig heeft.

Buisje on Handcrafted Warm IR Heaters

Twee tubige infrarode verwarmlamp