Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Di bilik proses litografi tersebut, wafer berukuran 300 mm itu baru saja keluar dari alat pembersih DNS, dan kini menunggu proses pengeringan menggunakan bahan fotoresist. Sistem tersebut tidak dapat bertoleransi terhadap perubahan suhu sebanyak ±0.5 °C, dan bilik bersih juga tidak boleh membenarkan kewujudan zarah-zarah tambahan. Jika terdapat sedikit pun perubahan pada suhu, kawalan ketepatan CD akan terjejas, dan hasil pengeluaran pun akan menurun.

Ketepatan pemanasan inframerah: Ketepatan yang sangat tinggi, sehingga mencapai tahap sub-milimeter, serta kemampuan untuk mengulangi proses pengeringan dengan hasil yang konsisten. Lampu pengering wafer DNS menggunakan pelepasan gelombang inframerah pendek yang disesuaikan agar sesuai dengan cara bahan fotoresist menyerap haba. Ini memastikan suhu yang konsisten di seluruh permukaan wafer, serta membolehkan kawalan suhu yang tepat semasa proses pengeringan. Sistem kawalan tertutup membantu mengekalkan suhu pada tahap yang ditetapkan, supaya setiap batch hasil pengeluaran mempunyai ciri-ciri yang serupa.

(Skrin) on Handcrafted Warm IR Heaters

Lampu pengering wafer DNS (Screen)