<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengelap on Handcrafted Warm IR Heaters</title>
		<link>http://warm-ir-heater-craft.com/ms/tags/pengelap/</link>
		<description>Recent content in Pengelap on Handcrafted Warm IR Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 03:32:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-craft.com/ms/tags/pengelap/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk proses pelapisan.</title>
				<link>http://warm-ir-heater-craft.com/ms/posts/coater-developer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 03:32:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-craft.com/ms/posts/coater-developer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-craft.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk proses pelapisan.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di ruang litografi, sebarang perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja pun boleh menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Lini pemberian bahan kimia dan proses pengolahan memerlukan haba yang disalurkan dengan cepat, secara tepat, dan konsisten semasa wafer melalui proses pemanasan. Jika pemanas jenis IR tidak berfungsi dengan baik, ia akan menyebabkan pembaziran bahan, kerja-kerja pembaikan yang banyak, serta gangguan dalam proses pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Pemanas jenis IR ini direka untuk menggunakan tenaga berfrekuensi inframerah dekat (NIR). Dengan cara ini, tenaga tersebut dapat disalurkan terus ke &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;lapisan&lt;/a&gt; fotoresist. Tekanan haba yang dihasilkan sangat tinggi, iaitu dalam masa beberapa saat sahaja, dan suhu di seluruh kawasan pemanasan kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Kekonsistenan suhu ini memastikan setiap batch produk mendapat kondisi pemanasan yang sama.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
