Mengeringkan on Handcrafted Warm IR Heaters

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 10 Jul 2026 02:12:43 +0800

Menggantikan Penggunaan Udara Panas dengan Cahaya Inframerah dalam Proses Pengeringan Wafer MEMS
Selama ini, cara yang digunakan untuk mengeringkan wafer sensor MEMS adalah dengan menggunakan udara panas. Ini merupakan kaedah lama. Kita bergantung pada proses konveksi untuk memindahkan haba ke permukaan wafer, dan berharap kelembapan akan menguap.

Masalahnya? Proses ini sangat lambat. Kita perlu menunggu beberapa minit sebelum udara panas dapat sampai ke bahagian-bahagian kecil pada wafer tersebut. Ini merupakan halangan yang menghalang proses pengeringan daripada berjalan lancar.

Lampu pengeringan wafer secara borong

Mon, 06 Jul 2026 04:35:11 +0800

Mengapa lampu IR yang sesuai dapat membantu meningkatkan keuntungan di fasiliti pemasangan?

Kami membuat lampu pengering wafer untuk satu tujuan sahaja: fasiliti pemasangan dan ujian yang memerlukan proses pengeringan yang cepat. Sangat mudah.

Tujuannya adalah untuk membantu meningkatkan kelajuan pengeluaran unit-unit produk, tanpa menambah beban kos operasi.

Apabila kami menyebut “standard tinggi”, kami bukan sekadar menggunakan istilah-istilah kosong. Maksudnya ialah kemampuan lampu tersebut untuk berfungsi dengan konsisten, sehingga proses pengeluaran tidak terganggu.

Kuasa, voltan, saiz: faktor-faktor penting yang perlu dipertimbangkan

Lampu ini merupakan penyerap inframerah berketumpatan tinggi, direka untuk menghasilkan haba dengan cepat dan terfokus.

Pemanas untuk pengeringan wafer selepas proses CMP

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

Di peringkat pengeringan selepas proses CMP, kesan air dan pemendapan zarah-zarah masih boleh mengurangkan kualiti wafer yang dihasilkan. Biasanya, punca masalahnya adalah disebabkan oleh profil suhu yang tidak stabil semasa proses pengeringan. Kami telah mencipta sistem pemanas khusus untuk wafer selepas proses CMP, agar variasi suhu dapat dikurangkan, bukannya ditambahkan.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek di belakang tingkap kuarsa, supaya tenaga dapat sampai ke wafer secara langsung dan cepat—tanpa melebihi suhu substrat. Di kawasan aktif tersebut, kita dapat mengekalkan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C. Repeatabiliti juga terjamin kerana sistem kawalan berlaku secara masa nyata. Unit ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan dan komponen yang digunakan dipilih agar jumlah zarah yang dihasilkan sama dengan sifar setelah proses pengeringan selesai.

Lampu pengering paparan fleksibel fab

Fri, 05 Jun 2026 01:52:16 +0800

Pada garis paparan fleksibel, hasil bergantung kepada kawalan terma. Proses Soft Bake yang menyimpang walaupun 2°C mengganggu keseragaman CD. Proses Hard Bake yang terlalu panas atau sejuk menjadikan profil resist tidak dapat diramalkan, dan pemindahan etsa menjadi tidak teratur. Lampu pengering tidak boleh hanya menjadi sumber haba—ia perlu berfungsi seperti instrumen proses yang tepat.

Apa yang penting di sebalik ini: kami membina lampu pengering sekitar NIR, dengan optik kuarza untuk pemanasan yang cepat dan tanpa sentuh. Di seluruh zon yang diterangi, keseragaman tahap wafer mengekalkan ±0.1°C, jadi setiap Soft Bake dan Hard Bake mendapat bajet terma yang sama. Ia direka untuk bilik bersih Kelas 1–100: pengeluaran gas yang rendah dan tiada penghasilan partikel di bawah operasi yang stabil. Lampu boleh beroperasi 24/7 dengan output yang boleh diramalkan, dan kebolehulangan mengekalkan lot demi lot.