Pemanas kuarsa untuk mesin bilas dan keringkan wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

Di bilik pemprosesan wafer, alat pengering ini terletak tepat di antara proses pembersihan dan proses litografi. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja pun boleh menyebabkan kesan “watermark” pada permukaan wafer. Lebih buruk lagi, ia boleh menyebabkan bahan fotorezist meleleh setelah proses pembakaran dilakukan. Kami telah membangunkan pemanas kuarsa khusus untuk zon pengering ini, di mana faktor seperti respons termal, kebersihan, dan ketepatan menjadi penentu kadar kejayaan proses pemprosesan wafer.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Komponen utama alat ini ialah pengeluhar sinar inframerah berfrekuensi rendah, yang membolehkan kawalan suhu yang tepat. Matlamat kami adalah untuk mencapai keseragaman suhu pada tahap wafer sebanyak ±0.1°C, dengan titik kawalan yang stabil antara 50°C hingga 250°C, serta masa tindak balas kurang dari 2 saat. Sistem kawalan tertutup memastikan suhu tetap stabil, sehingga struktur halus pada wafer tidak rosak semasa proses etching dan CMP. Badan alat ini diperbuat daripada kuarsa berkualiti tinggi, yang sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Permukaannya direka agar penghasilan zarah-zarah kecil dapat dikurangkan, dan alat ini boleh beroperasi 24/7 tanpa perlu dikalibrasi semula.

Kuarza on Handcrafted Warm IR Heaters

Pemanas kuarsa untuk mesin bilas dan keringkan wafer