http://warm-ir-heater-craft.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/ Recent content in 와이퍼 on Handcrafted Warm IR Heaters Hugo ko Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800 http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/ Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800 http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-craft.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="DNS(스크린) 웨이퍼 건조용 램프"></p> <p>리소그래피 공정에서는, 그 300mm 웨이퍼가 DNS 세척기에서 나온 직후 사진감광제를 도포하기 위해 대기 상태에 있습니다. 이 공정에서는 ±0.5°C의 온도 변동조차 허용되지 않으며, 클린룸 내에는 불필요한 입자들도 존재해서는 안 됩니다. 온도가 조금이라도 변하면 웨이퍼의 형상 제어가 어려워지고, 그 결과 생산성도 저하됩니다.</p> http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800 http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-craft.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="CMP 후 웨이퍼 건조 히터"></p> <p>CMP 공정 이후에도 워터마크나 입자가 다시 쌓이는 문제로 인해 생산성이 저하됩니다. 대부분의 경우, 그 원인은 건조 과정에서의 불안정한 온도 변화 때문입니다. 우리는 이러한 변수들을 제거하기 위해 CMP 이후의 웨이퍼 건조용 히터를 개발했습니다.</p> http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/quartz-heater-for-wafer-rinse-dryer/ Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800 http://warm-ir-heater-craft.com/ko/posts/quartz-heater-for-wafer-rinse-dryer/ <p><img src="http://warm-ir-heater-craft.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="웨이퍼 세척 건조기용 석영 히터"></p> <p>팹 내에서는 리인스 드라이어가 클린 공정과 리소그래피 공정 사이에 위치해 있습니다. 단 0.5°C만의 온도 변동도 웨이퍼에 워터마크를 남길 수 있으며, 더 심각한 경우에는 하드 베이크 과정 이후 포토레지스트가 재유동될 수도 있습니다. 우리는 바로 이러한 리인스 드라이어 구역을 위해 특별히 설계된 석영 히터를 사용합니다. 여기서는 열 반응 속도, 청결도, 그리고 재현성이 생산 효율에 직접적인 영향을 미칩니다.</p>