Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Nella sala di litografia, il wafer da 300 mm esce appena dal dispositivo di pulizia DNS e rimane lì in attesa che avvenga la fase di essiccazione con fotorest. La linea di produzione non tollera variazioni di temperatura superiori a ±0,5 °C; inoltre, la camera pulita non può permettersi la presenza di particelle estranee. Se la temperatura varia anche solo leggermente, si perde il controllo sulla qualità del prodotto, e di conseguenza anche il rendimento della produzione.

(Schermo) on Handcrafted Warm IR Heaters

Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)