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		<title>CMP on Handcrafted Warm IR Heaters</title>
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		<description>Recent content in CMP on Handcrafted Warm IR Heaters</description>
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				<title>Scaldatore per essiccazione dei wafer dopo CMP</title>
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				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-craft.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Scaldatore per essiccazione dei wafer dopo CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul piano tecnico, le tracce d’acqua e la rideposizione di particelle dopo il processo CMP continuano a ridurre l’efficienza del processo stesso. Spesso, il problema è legato a un profilo termico instabile durante la fase di essiccazione. Abbiamo progettato il riscaldatore per il raffreddamento dei wafer dopo il CMP &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;proprio&lt;/a&gt; per eliminare questa variabilità, invece di aumentarla.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa è importante dal punto di vista tecnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo elementi a infrarossi a breve lunghezza d’onda, posizionati dietro una finestra di quarzo; in questo modo l’energia raggiunge direttamente il wafer, velocemente, senza causare problemi sul substrato stesso. Nella zona attiva, manteniamo una uniformità della temperatura entro ±0,1°C; inoltre, grazie a un sistema di controllo a loop chiuso calibrato, possiamo monitorare in tempo reale la temperatura effettiva rispetto al valore desiderato. Il dispositivo è adatto per ambienti puliti di classe 1–100; i materiali e i sigilli utilizzati permettono di mantenere una quantità minimale di particelle, una volta raggiunto lo stato di equilibrio.&lt;/p&gt;</description>
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