Bagian pemanas untuk resistan UV ekstrem (EUV)

Wed, 01 Jul 2026 07:57:07 +0800

Di area litografi, proses pengolahan EUV resist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Jika suhu selama proses pemanasan sedikit berlebihan, maka kualitas hasil produksi akan menurun—secara perlahan, dan hal ini akan berulang dari satu shift ke shift berikutnya. Komponen pemanas yang ada di bawah lapisan resist harus mampu memberikan suhu yang konstan, dari satu shift ke shift lainnya, tanpa menghasilkan partikulat atau menyebabkan downtime.

Apa yang penting dalam desain pemanas ini? Kami merancang pemanas EUV resist menggunakan sumber inframerah yang terkendali—baik gelombang pendek maupun gelombang menengah—dengan menggunakan jendela kaca kuarsa dan elemen halogen yang dipilih agar menghasilkan output spektral yang stabil. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer tetap konstan, dalam rentang ±0,1°C, dan pola pemanasan pun tetap konsisten. Paket ini juga dirancang untuk digunakan di ruangan bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan finishing yang dipilih agar tidak menghasilkan partikulat sama sekali selama proses berlangsung. Daya dan tegangan yang dihasilkan sesuai dengan standar, dan konektor-konektornya cocok dengan sistem pemanasan yang sudah ada, sehingga tidak perlu melakukan kabel ulang saat mengganti komponen pemanas.

UV on Handcrafted Warm IR Heaters

Bagian pemanas untuk resistan UV ekstrem (EUV)