Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Di lantai proses litografi tersebut, wafer berdiameter 300 mm tersebut baru saja keluar dari alat pembersih DNS, dan kini menunggu proses pengeringan menggunakan fotoresist. Sistem produksi tidak akan mentolerir fluktuasi suhu sebesar ±0,5 °C, dan ruang bersih juga tidak akan mentolerir adanya partikel-partikel tambahan. Jika profil termalnya berubah sedikit saja, maka kontrol kualitas wafer akan terganggu, sehingga tingkat hasil produksi pun akan menurun.

Akurasi pemanasan inframerah: keseragaman dan repetibilitas hingga tingkat sub-milimeter Lampu pengering wafer DNS menggunakan emiter inframerah berpanjang gelombang pendek yang disesuaikan dengan cara penyerapan radiasi oleh lapisan fotoresist. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu hingga tingkat sub-milimeter di seluruh permukaan wafer. Selain itu, sistem kontrol tertutup memastikan suhu tetap berada dalam batas toleransi yang ditentukan, baik selama proses pengeringan ringan maupun berat. Dengan demikian, setiap batch wafer akan memiliki profil termal yang sama, dari satu batch ke batch lainnya.

(Layar) on Handcrafted Warm IR Heaters

Lampu pengering wafer DNS (Screen)