Kwarsa on Handcrafted Warm IR Heaters

Pelindung kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Sun, 26 Jul 2026 15:10:17 +0800

Mengapa Lampu IR yang Dilindungi oleh Kaca Kuarsa Sangat Penting di Pabrik Semikonduktor
Jika Anda masih mengandalkan sirkulasi udara panas untuk proses pengolahan semikonduktor, maka Anda sebenarnya sedang menunggu waktu yang lama. Anda perlu memanaskan seluruh ruang tersebut—setiap inci kubik udaranya—sebelum benda kerja mulai memanas. Proses ini lambat dan merepotkan.

Dengan menggunakan pemanasan inframerah (IR), situasinya berubah. Alih-alih menunggu kipas untuk mengalirkan udara panas, radiasi elektromagnetik dikirim langsung ke permukaan benda kerja. Ini seperti perbedaan antara memanaskan ruangan dengan pemanas biasa dan berada di bawah sinar matahari; Anda akan langsung merasakan panasnya.

Tabung pemanas kuarsa untuk oven fabrikasi

Tue, 30 Jun 2026 02:13:13 +0800

Di pabrik pembuatan chip tersebut, proses pemanasan photoresist bukanlah sekadar saran saja—itu merupakan bagian penting dari proses produksi. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan dapat mempengaruhi dimensi-dimensi kritis dari chip tersebut, menyebabkan munculnya kotoran, dan akhirnya membuat banyak chip menjadi limbah. Tabung pemanas berbahan kuarsa inilah yang membantu menjaga stabilitas suhu selama proses produksi berlangsung.

Apa yang penting dalam hal ini? Kami merancang tabung pemanas berbahan kuarsa ini agar dapat bertahan dalam kondisi panas yang ekstrem di dalam oven pabrik—dengan respons yang cepat dan keluaran yang stabil, bahkan ketika pintu oven terus dibuka dan ditutup. Sinar inframerah pendek digunakan untuk mengarahkan panas tepat ke tempat yang diperlukan, yaitu di zona proses. Inersia termal yang rendah berarti proses pemanasan dapat dilakukan secara konsisten.

Pemanas kuarsa untuk alat pembersih dan pengering wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

Di area proses pembersihan dan pengeringan ini, alat pemanas berada tepat di antara tahap pembersihan dan tahap litografi. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk menyebabkan munculnya “watermark” pada wafer—atau yang lebih buruk lagi, dapat memicu perubahan struktur fotoresist setelah proses pembakaran. Kami membuat pemanas kuarsa khusus untuk digunakan di zona pembersihan dan pengeringan ini, karena respons termal yang baik, tingkat kebersihan yang tinggi, serta kemampuan untuk menghasilkan hasil yang konsisten sangat penting.