सीएमपी के बाद वेफर को सुखाने हेतु हीटर

Sun, 21 Jun 2026 03:02:49 +0800

CMP के बाद, पानी के निशान एवं कणों का पुनः जमाव होने से उत्पादन दर प्रभावित होती है। अक्सर, इसका कारण सूखने की प्रक्रिया में होने वाला अस्थिर तापमान होता है। हमने CMP के बाद वेफरों को सूखाने हेतु ऐसे हीटर विकसित किए हैं, ताकि ऐसी अस्थिरताओं को दूर किया जा सके।

तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें:
हम क्वार्ट्ज विंडो के पीछे शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तत्वों का उपयोग करते हैं; इससे ऊर्जा सीधे वेफर तक पहुँचती है, और सब्सट्रेट पर कोई अतिरिक्त दबाव नहीं पड़ता। सक्रिय क्षेत्र में, वेफर का तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है, एवं कैलिब्रेटेड क्लोज्ड-लूप नियंत्रण प्रणाली के कारण वास्तविक तापमान पर नज़र रखी जा सकती है। यह उपकरण क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में भी उपयोग में आ सकता है; सामग्रियों एवं सीलों का चयन ऐसा किया गया है कि स्थिर अवस्था में कोई कण उत्पन्न न हों।

सीएमपी on Handcrafted Warm IR Heaters

सीएमपी के बाद वेफर को सुखाने हेतु हीटर