Composants de chauffage pour résistances UV extrêmes (EUV)

Wed, 01 Jul 2026 07:57:07 +0800

Dans le domaine de la lithographie, le traitement des résists EUV ne tolère pas les écarts thermiques. Une température légèrement trop élevée pendant le séchage peut entraîner des problèmes ; de plus, les écarts de température sur toute la surface du wafer peuvent également avoir des conséquences négatives. On perd alors en rendement, de manière progressive et répétitive au fil des cycles de production. Les composants chauffants situés sous le résist doivent donc assurer une température constante, quel que soit le cycle ou le lot de production, sans produire de particules ni provoquer d’arrêts non planifiés.

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Composants de chauffage pour résistances UV extrêmes (EUV)